硬質コーティング用TiN窒化チタンスパッタリングターゲット

チタンナイトリド (TiN) ターゲットは,世界的に最も広く使用される金属陶器機能ターゲットの1つです.金属の電気と熱伝導性を,陶器の高硬さと耐腐蝕性と組み合わせますマグネトロンスプッタリングのようなプロセスにより,バランスのとれた機能フィルムが蓄積され,これらのフィルムは機械製造に不可欠な着用保護を提供します.半導体電子の高精度機能要求を満たす機械,電子機器,装飾など高級製造分野に広く使用されています.航空宇宙産業のあらゆる分野において 汎用的なコア材料となっています

チタンナイトリド (TiN) の特異性

わかった 優れた密度

相対密度は ≥98%,粒の大きさは 3-10 μm の間で均等に分布し,スプートリング中に弧放電を軽減し,フィルム組成の均一性を改善します.

わかった 高度 の 沉着 率,霧 化 が ない

高度な堆積率を最適化することで,効率が最大化され,フィルムが透明であり,外観と密度が保証されます.

わかった 超硬くて耐磨性がある

この標的は1800 HV (ヴィッカース硬度) 以上の一貫した堅固な硬さを提供します.常用金属フィルムより4~8倍以上の耐磨性があり,フィルム破裂を積極的に防止し,コーティングの整合性を確保するために必須の強さを維持していますほら

わかった 低電気抵抗性

室温抵抗 ≤150 μΩ·cm,従来のセラミックターゲットをはるかに上回り,半導体ゲート,熱消散コーティングに適しています.他の電導性/熱電導性アプリケーション.

わかった 調節可能な色

自然に黄金色で,プロセスの最適化によって黒,灰,その他の色に調整され,高級の装飾ニーズを満たすことができます.

チタンナイトリド (TiN) の幅広い用途

わかった ハードコーティング

TiNコーティングは 均一で古典的な黄金の黄色で 極めて透明で 霧や粒子の欠陥が全くなく 長寿のために設計されています表面は色が薄くなり 擦り裂きにも強い厳格で長期間の使用においても 純正な外観を保ちます.RoHS環境基準に準拠し,生産効率を30%以上高めます.

わかった 半導体製造

電子機器における安定した信号伝送を保証し,使用期間を延長します.TiNコーティングは7nm以下の高度なノードと完全に互換性があります.最厳格な半導体製造要件に対応し,半導体出力率 ≥98%を達成できる消費電子機器部門の大量生産効率を25%向上させる.

わかった 光学場

TiNは,すべての光学装置に優れた画像透明性と高光伝達性を保証します. 微粒子の欠陥を最小限に抑えることで,レンズ出力率を大幅に向上させます.精密な光学部品を毎日数千個処理するために必要な高容量の容量を提供.