Principais materiais alvo:Cu, Ti, Al, RPD Materials, Yb, Ni, Ag, ITO, ZrO₂, H4

Estes materiais podem depositar filmes de alta pureza, altamente uniformes, densos e estáveis, alcançando excelentes propriedades ópticas, elétricas e mecânicas.Os alvos de alto desempenho garantem a consistência e estabilidade do material durante a preparação do filme, fornecendo uma base material fiável para ecrãs de painel plano, óptica, fotovoltaicos, semicondutores, filmes funcionais e outros campos.

1.Aplicações-alvo da RPD

Os alvos são usados no processo RPD para deposição de filme de alta precisão, permitindo baixa resistência, alta transmissão e alta uniformidade nos filmes.Eles cumprem os rigorosos requisitos de desempenho dos ecrãs de grande áreaAo mesmo tempo, os objetivos de elevada estabilidade suportam a produção em massa e o processamento repetido, melhorando a eficiência da produção.

2. Aplicações de materiais de evaporação

Os alvos podem ser utilizados em processos físicos de deposição de vapor (PVD) ou evaporação a vácuo para preparar filmes ópticos, filmes condutores e camadas funcionais.Os alvos de alta densidade garantem a uniformidade do filme, adesão e estabilidade química, e são amplamente aplicados em campos de ponta, como painéis de exibição, células solares, dispositivos ópticos, vidro funcional e revestimentos decorativos.

Papéis-chave