Hauptzielmaterialien:Cu, Ti, Al, RPD-Materialien, Yb, Ni, Ag, ITO, ZrO₂, H4

Diese Materialien können hochreine, hochuniforme, dichte und stabile Filme abscheiden und erzielen hervorragende optische, elektrische und mechanische Eigenschaften. Hochleistungsziele gewährleisten Materialkonsistenz und -stabilität während der Filmerstellung und bieten eine zuverlässige Materialgrundlage für Flachbildschirme, Optiken, Photovoltaik, Halbleiter, Funktionsfilme und andere Bereiche.

1.Anwendungen von RPD-Zielen

Die Ziele werden im RPD-Verfahren für die hochpräzise Filmdeposition eingesetzt und ermöglichen geringen Widerstand, hohe Transmission und hohe Uniformität der Filme. Sie erfüllen die strengen Leistungsanforderungen von großflächigen Displays, Touchscreens und optischen Geräten. Gleichzeitig unterstützen hochstabile Ziele die Massenproduktion und wiederholte Verarbeitung, was die Produktionseffizienz verbessert.

2. Anwendungen von Verdampfungsmaterialien

Die Ziele können in physikalischen Dampfabscheidungs- (PVD) oder Vakuumverdampfungsprozessen zur Herstellung von optischen Filmen, leitfähigen Filmen und Funktionsschichten verwendet werden. Hochreine, hochdichte Ziele gewährleisten Filmuniformität, Haftung und chemische Stabilität und werden in High-End-Bereichen wie Display-Panels, Solarzellen, optischen Geräten, Funktionsglas und dekorativen Beschichtungen eingesetzt.

Schlüsselrollen