Bahan Target Utama:Cu, Ti, Al, Bahan RPD, Yb, Ni, Ag, ITO, ZrO₂, H4

Bahan-bahan ini dapat mengendapkan film dengan kemurnian tinggi, keseragaman tinggi, kepadatan tinggi, dan stabilitas tinggi, sehingga mencapai sifat optik, listrik, dan mekanik yang sangat baik. Target berkinerja tinggi memastikan konsistensi dan stabilitas material selama persiapan film, menyediakan fondasi material yang andal untuk tampilan panel datar, optik, fotovoltaik, semikonduktor, film fungsional, dan bidang lainnya.

1.Aplikasi Target RPD

Target digunakan dalam proses RPD untuk pengendapan film presisi tinggi, memungkinkan resistansi rendah, transmisi tinggi, dan keseragaman tinggi pada film. Target ini memenuhi persyaratan kinerja ketat dari tampilan area luas, layar sentuh, dan perangkat optik. Pada saat yang sama, target dengan stabilitas tinggi mendukung produksi massal dan pemrosesan berulang, meningkatkan efisiensi produksi.

2. Aplikasi Bahan Evaporasi

Target dapat digunakan dalam proses deposisi uap fisik (PVD) atau evaporasi vakum untuk menyiapkan film optik, film konduktif, dan lapisan fungsional. Target dengan kemurnian tinggi dan kepadatan tinggi memastikan keseragaman film, adhesi, dan stabilitas kimia, serta banyak diterapkan di bidang kelas atas seperti panel tampilan, sel surya, perangkat optik, kaca fungsional, dan pelapis dekoratif.

Peran Kunci