Materiales Principales de Destino:Cu, Ti, Al, Materiales RPD, Yb, Ni, Ag, ITO, ZrO₂, H4

Estos materiales pueden depositar películas de alta pureza, altamente uniformes, densas y estables, logrando excelentes propiedades ópticas, eléctricas y mecánicas. Los objetivos de alto rendimiento garantizan la consistencia y estabilidad del material durante la preparación de películas, proporcionando una base de material confiable para pantallas planas, óptica, fotovoltaica, semiconductores, películas funcionales y otros campos.

1.Aplicaciones de los Objetivos RPD

Los objetivos se utilizan en el proceso RPD para la deposición de películas de alta precisión, lo que permite baja resistencia, alta transmitancia y alta uniformidad en las películas. Cumplen con los estrictos requisitos de rendimiento de pantallas de gran área, pantallas táctiles y dispositivos ópticos. Al mismo tiempo, los objetivos de alta estabilidad respaldan la producción en masa y el procesamiento repetido, mejorando la eficiencia de producción.

2. Aplicaciones de Materiales de Evaporación

Los objetivos se pueden utilizar en procesos de deposición física de vapor (PVD) o evaporación al vacío para preparar películas ópticas, películas conductoras y capas funcionales. Los objetivos de alta pureza y alta densidad garantizan la uniformidad, adhesión y estabilidad química de la película, y se aplican ampliamente en campos de alta gama como paneles de visualización, células solares, dispositivos ópticos, vidrio funcional y recubrimientos decorativos.

Roles Clave