Κύρια Υλικά Στόχοι:Cu, Ti, Al, Υλικά RPD, Yb, Ni, Ag, ITO, ZrO₂, H4

Αυτά τα υλικά μπορούν να εναποθέσουν φιλμ υψηλής καθαρότητας, υψηλής ομοιομορφίας, πυκνά και σταθερά, επιτυγχάνοντας εξαιρετικές οπτικές, ηλεκτρικές και μηχανικές ιδιότητες. Οι στόχοι υψηλής απόδοσης διασφαλίζουν τη συνέπεια και τη σταθερότητα του υλικού κατά την προετοιμασία του φιλμ, παρέχοντας μια αξιόπιστη υλική βάση για οθόνες επίπεδης οθόνης, οπτικά, φωτοβολταϊκά, ημιαγωγούς, λειτουργικά φιλμ και άλλους τομείς.

1.Εφαρμογές Στόχων RPD

Οι στόχοι χρησιμοποιούνται στη διαδικασία RPD για εναπόθεση φιλμ υψηλής ακρίβειας, επιτρέποντας χαμηλή αντίσταση, υψηλή διαπερατότητα και υψηλή ομοιομορφία στα φιλμ. Ανταποκρίνονται στις αυστηρές απαιτήσεις απόδοσης μεγάλων οθονών, οθονών αφής και οπτικών συσκευών. Ταυτόχρονα, οι στόχοι υψηλής σταθερότητας υποστηρίζουν τη μαζική παραγωγή και την επαναλαμβανόμενη επεξεργασία, βελτιώνοντας την αποδοτικότητα παραγωγής.

2. Εφαρμογές Υλικών Εξάτμισης

Οι στόχοι μπορούν να χρησιμοποιηθούν σε διαδικασίες φυσικής εναπόθεσης ατμών (PVD) ή κενού για την προετοιμασία οπτικών φιλμ, αγώγιμων φιλμ και λειτουργικών στρωμάτων. Οι στόχοι υψηλής καθαρότητας και υψηλής πυκνότητας διασφαλίζουν την ομοιομορφία του φιλμ, την πρόσφυση και τη χημική σταθερότητα, και εφαρμόζονται ευρέως σε τομείς υψηλής τεχνολογίας όπως πάνελ οθόνης, ηλιακά κύτταρα, οπτικές συσκευές, λειτουργικό γυαλί και διακοσμητικές επιστρώσεις.

Βασικοί Ρόλοι