Các mục tiêu chính:Cu, Ti, Al, vật liệu RPD, Yb, Ni, Ag, ITO, ZrO₂, H4

Các vật liệu này có thể lắng đọng các bộ phim tinh khiết cao, đồng nhất cao, dày đặc và ổn định, đạt được tính chất quang học, điện và cơ học xuất sắc.Các mục tiêu hiệu suất cao đảm bảo sự nhất quán và ổn định của vật liệu trong quá trình chuẩn bị phim, cung cấp một nền tảng vật liệu đáng tin cậy cho màn hình phẳng, quang học, quang điện, chất bán dẫn, phim chức năng và các lĩnh vực khác.

1.Ứng dụng mục tiêu RPD

Các mục tiêu được sử dụng trong quy trình RPD để lắng đọng phim chính xác cao, cho phép kháng thấp, truyền thông cao và đồng nhất cao trong các bộ phim.Chúng đáp ứng các yêu cầu hiệu suất nghiêm ngặt của màn hình diện tích lớnĐồng thời, các mục tiêu ổn định cao hỗ trợ sản xuất hàng loạt và xử lý lặp đi lặp lại, cải thiện hiệu quả sản xuất.

2. Ứng dụng vật liệu bay hơi

Các mục tiêu có thể được sử dụng trong quá trình lắng đọng hơi vật lý (PVD) hoặc quá trình bốc hơi chân không để chuẩn bị phim quang, phim dẫn điện và lớp chức năng.các mục tiêu mật độ cao đảm bảo sự đồng nhất của phim, dính và ổn định hóa học, và được áp dụng rộng rãi trong các lĩnh vực cao cấp như bảng hiển thị, pin mặt trời, thiết bị quang học, kính chức năng và lớp phủ trang trí.

Vai trò chính