Company
منتجات
رش المواد المستهدفة
هدف رش السيليكون (هدف رش Si)
أهداف رش النحاس الصينية (أهداف رش النحاس)
هدف رش أكسيد القصدير الإنديوم (ITO).
هدف ترشيش من التيتانيوم عالي النقاء (هدف ترشيش Ti)
أهداف سيراميك
أهداف رش أكسيد الألومنيوم عالية النقاء (هدف الرش Al₂O₃)
أهداف رش تيلوريد الزنك (ZnTe) لمواد الطلاء
أهداف رش أكسيد الزنك (هدف رش أكسيد الزنك)
أهداف الرش بأكسيد السيريوم الإنديوم (أهداف الرش ICO)
هدف رش عالي المقاومة (هدف رش GXO)
أهداف رش كربيد السيليكون (هدف رش كربيد السيليكون)
الهدف المستهدف
أهداف التنقيط الهافنيوم (Hf)
أهداف الرش المهبطي للتنجستن (W) للطلاء بالترسيب الفيزيائي للبخار
هدف رش الزنك (هدف رش الزنك) مواد رقيقة
أهداف رش الزركونيوم عالية النقاء (هدف رش الزركونيوم)
الهدف ذو القسوة العالية معالجة التدفق المقاومة للارتداء WC الهدف الكربوني من التلفستين
أهداف الرش المصنوعة من الألومنيوم والتيتانيوم عالية النقاء (أهداف الرش TiAl)
الهدف الذي يطعّن الأرض النادرة
أهداف رش التيربيوم عالية النقاء (أهداف رش التيربيوم)
هدف رش ديسبوسيوم عالي النقاء لأفلام مغناطيسية وطلاءات بصرية
مواد التبخير
مسحوق سبائك الألومنيوم والسيليكون، مسحوق معدني، مسحوق معدني، تلبيد بالضغط الساخن
هدف رش كوارتز حلقي الشكل SiO2 للطلاء الفراغي
مواد التبخر غير العضوية أكسيد النيوبيوم Nb2O5 مع مؤشر انكسار مرتفع
مواد التبخير الرقيق للطلاء بالرش في كتلة الإنديوم
نقاء عالية تانتالوم بنتوكسيد Ta2O5 للأجهزة البصرية نصف الموصل
مواد تبخير أكاسيد المعادن الانتقالية خماسي أكسيد التيتانيوم Ti3O5
خدمة ربط الأهداف بالرش
خدمة ربط الأهداف المستوية لمجال الطلاء بالترسيب الفيزيائي للبخار
التصاق لوحات دعم أهداف الرش الدقيقة للقنوات المائية ＞98%
خط إنتاج الطلاء خدمة ربط الهدف بالبوسطة ربط الهدف الدواري
1
