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Sputtertargetmaterial
ITO Sputtertargetmaterial Indiumzinnoxid-Target für Displaytechnologie
Zielmaterial für die Sputterung mit hoher Reinheit Si Ziel für die Halbleiterherstellung
Spezialisierung / Planer / Rotary Cu Kupfer Ziel für Sputtering Beschichtung
990,5% - 99,95% Reinheit Titan Sputter Ziel Korrosionsbeständigkeit Ti Ziel
Keramikziele
Titandioxid TiOx Keramiktargets Hohe Reinheit für das Feld der Optoelektronik
Indium-Zink-Oxid IZO Zielmaterial für die Anzeigetechnologie
Ziel für das Sputtern von TiN-Titannitrid für harte Beschichtungen
CrC Chromcarbid-Sputtertarget Korrosionsbeständigkeit für PVD-Beschichtung
Titanborid TiB2 Keramik-Sputterziel für PVD-Beschichtung
NiOx-Nickeloxid-Zielmaterial für Solarbatterien
Ziel für Metallsputtern
PT Platin-Ziel für Magnetron-Sputter-Ausdampfungs-Ionenplattierung
Anpassbarer Größe Chrom-Ziel Dreh- / Flächen-Cr-Sputter-Ziel
Flat / Rotating AlSc Aluminium Scandium Sputtering Ziel
Indium-Zinn-Target InSn-Legierung Sputtertarget Anpassbares Verhältnis
Aluminium Neodym AINd Ziel für die Optoelektronikindustrie
Zubereitungen für die Verarbeitung von NiCr-Zeichen
Seltenerd-Sputtertarget
Tb Terbium Sputtertarget Seltenerdmetall-Sputtertargets
Hochreine Dy-Dysprosium-Sputtertargets für magnetische Filme und optische Beschichtungen
Verdunstungsmaterialien
Aluminium-Silizium-Mischmetall-Materialziel Pulvermetallurgie Heißpressen Sintern
Ringförmiges Quarz SiO2 Sputtertarget für Vakuumaufdampfung
Anorganische Verdampfungsmaterialien Nioboxid Nb2O5 mit hohem Brechungsindex
Dünnschichtverdampfungssputtermaterialien in Indiumblock
Hochreines Tantalpentoxid Ta2O5 für optische Geräte und Halbleiter
Übergangsmetalloxid-Verdampfungsmaterialien Titandipentoxid Ti3O5
Sputtering-Zielbindungsdienst
Planar Target Bonding Service für PVD-Beschichtungsfeld
Präzisionswasserkanalsputtern Zielstützplatten Bindungsabhängigkeit > 98%
Beschichtungs-Produktionslinie Sputtern Zielbindungsdienst Drehzielbindung
Feines Pulver
Anorganisches amorphes Glaspulver Hohe Reinheit Geringe Verunreinigungen
Keramikpulver mit hoher Reinheit Keine Restverunreinigungen Einheitliche Verteilung
Sphärisches mikrokristallines Silberflockenpulver für Photovoltaik-Elektronik
Nano-Zinnindium-Zink-Kupfer-Bismuth-Cerium-Oxid-Pulver zum Elektroplattieren
Elektronische Paste
Viskosität 150 - 240 Pa·S Elektronikpaste Oberflächenmontage-Chipwiderstandspaste
Seltenerd-elektronische Paste Umweltfreundlich hohe elektrische Leitfähigkeit
Hochstromüberspannungsbeständigkeit Elektronische Paste Varistor Paste für elektrische Systeme
Umweltfreundliche elektronische Pastenwiderstand-Überglasurpaste für hybride integrierte Schaltungen
Automobil-Rückspiegel mit Lichtverhüllung
Vor- / Hinterfahrzeug Windschutzscheibe Glas Paste Wärmedämmung Paste Silber Paste
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