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APG präsentiert fortschrittliche Technologie auf dem 17. Nationalen Symposium für Dünnschichttechnologie und erkundet die innovative Zukunft von
APG präsentiert fortschrittliche Technologie auf dem 17. Nationalen Symposium für Dünnschichttechnologie und erkundet die innovative Zukunft von
Die 17. Nationale Tagung für Dünnschichttechnologie fand vom 14. bis 16. November 2025 in Nanshan, Shenzhen, statt und markierte gleichzeitig die Feierlichkeiten zum 40-jährigen Bestehen des Fachkomitees für Dünnschichttechnologie der Chinesischen Vakuumgesellschaft.
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Während dieses prestigeträchtigen Branchenforums präsentierte sich die Shenzhen APG Materials Co., Ltd. (im Folgenden als „APG Group“ bezeichnet), die sich seit 15 Jahren intensiv mit Sputtertargets für Dünnschichten beschäftigt, mit zahlreichen Kerntechnologie-Errungenschaften. Durch das Engagement für unabhängige Innovationen hat die APG Group kritische Herausforderungen der Branche erfolgreich gemeistert und gleichzeitig der Lokalisierung von Hochleistungs-Dünnschichtmaterialien bedeutende Impulse verliehen.
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Erstens präsentierte das Unternehmen seine neuesten Durchbrüche bei der Lokalisierung kritischer Targetmaterialien und unterstrich damit die fortschrittlichen Fertigungskapazitäten und die wachsende Wettbewerbsstärke der chinesischen heimischen Industrie.
Zweitens baute sie eine tiefe Kommunikationsbrücke zu vorgelagerten und nachgelagerten Partnern in der Lieferkette sowie zu Forschungseinrichtungen auf, um einen Branchenkonsens zu fördern und die kontinuierliche Iteration und Anwendung der Dünnschichttechnologie voranzutreiben und so eine qualitativ hochwertige Entwicklung in der gesamten Branche zu fördern.
Während des Symposiums präsentierte die APG Group bedeutende Fortschritte in der Forschung und Produktinnovation von hochwertigen Dünnschicht-Targetmaterialien:
Um globale Einschränkungen bei reaktiven Plasmaabscheidungs-Targetmaterialien zu überwinden und häufige Probleme wie Partikelspritzer und Materialermüdung effektiv zu beseitigen, schlug die APG Group eine Korngrößenklassifizierung und eine Hochtemperatur-Schnellabschrecktechnologie vor, wodurch das Problem der Lochstrukturregulierung gelöst wurde. Dieser Meilenstein ermöglichte den erfolgreichen heimischen Ersatz von hochwertigen importierten Targetmaterialien und wurde durch die Erteilung von drei Kernpatent-Erfindungen weiter validiert.
Dieses Produkt half auch unserem Partner, nämlich LONGi Green Energy, den weltweit höchsten Rekord für Batterieeffizienz zu erzielen.
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Hochreine Seltenerd-Terbium (Tb) Rotationsziele
Um die Herstellungskomplexität von hochreinen Seltenerd-Terbium (Tb) Rotationszielen zu bewältigen, hat die APG Group erfolgreich eine fortschrittliche Vakuumdestillations-Plasma-Reinigungstechnologie implementiert. Ergänzend dazu führten wir eine proprietäre In-situ-Entschäumungs-Gusstechnologie ein, die speziell für Rotationsziele entwickelt wurde. Diese technischen Durchbrüche haben überlegene Materialspezifikationen hervorgebracht, darunter eine hohe Dichte von >99 % und eine extrem geringe Sauerstoffverunreinigung von <500 ppm; und diese Erfindung wird durch drei erteilte Patente unterstützt.
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Hoch-Scandium (Sc) Aluminium-Scandium-Ziele
Um die kritischen Herausforderungen der Zusammensetzungsungleichmäßigkeit und des übermäßigen Sauerstoffgehalts in Hoch-Scandium (Sc) Aluminium-Scandium-Targets zu bewältigen, hat die APG Group eine hochentwickelte Metallreinigungs- und Kornkontrolltechnologie entwickelt, die eine Targetgleichmäßigkeit von <±0,2 % und einen bemerkenswert niedrigen Sauerstoffgehalt von <50 ppm erzielt. Diese technischen Fortschritte wurden offiziell mit der Erteilung eines Kernpatent-Erfindung anerkannt.
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Zinnoxid-Ziele
Um das Problem der „Kompatibilität zwischen Verdichtung und hoher elektrischer Leitfähigkeit“ bei Zinnoxid-Targets zu lösen, schlug die APG Group eine Mehrkomponenten-Dotierungstechnologie vor, die eine Targetdichte von >99 % bei einem spezifischen Widerstand von <10 mΩ·cm erzielt, und diese Errungenschaft wurde mit zwei Erfindungspatenten ausgezeichnet.
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In den letzten Jahren hat die APG Group bedeutende Durchbrüche bei der Entwicklung von AlSc- und PZT-Targets für 5G-Filter und piezoelektrische Geräte erzielt, neben hochreinen Seltenerd-Targets wie Tb, Dy und PrAlCu für Permanentmagnete. Darüber hinaus haben wir hochmobile Indiumoxid-basierte TCOs, Trägertransportschichten auf Basis von Zinn- und Nickeloxiden sowie kritische Lichtabsorptionsmaterialien für CuGa- und CdTe-Solarzellen weiterentwickelt.
Zu den Hauptkunden zählen Branchenführer wie LONGi, Fuyao, BOE und Lens Technology. Diese erfolgreichen Entwicklungen haben zu zusätzlichen Einnahmen von über 350 Millionen Yuan geführt.
Insbesondere hat die RPD-Targettechnologie der Gruppe eine „international fortschrittliche“ Bewertung erreicht, die den vollständigen Ersatz importierter Materialien durch leistungsstarke heimische Alternativen ermöglicht. Dieser Durchbruch hat die Unabhängigkeit der heimischen Lieferkette erheblich verbessert und direkt dazu beigetragen, dass Photovoltaikkunden Weltrekord-Solarumwandlungseffizienzen erzielen konnten.
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Die APG Group hat langfristige, stabile Partnerschaften mit Top-Universitäten wie der Tsinghua University, der Shenzhen University und der Shanghai Jiao Tong University aufgebaut. Durch gemeinsame Praktikums- und F&E-Zentren beschleunigt das Unternehmen die Transformation von Kerntechnologie-Errungenschaften und erzielt eine tiefe Integration von „Industrie-Akademie-Forschung-Anwendung“.
Gleichzeitig beteiligt sich die APG Group aktiv an Branchenverbänden, leitet/beteiligt sich an der Formulierung von Industriestandards und engagiert sich proaktiv im technischen Austausch mit Kollegen, um die allgemeine Weiterentwicklung der Branche voranzutreiben. Mit Blick auf die Zukunft wird die APG Group ihre Industrie-Akademie-Forschungskooperation weiter vertiefen und sich auf drei Kernrichtungen konzentrieren:Fortschrittliche Vorbereitungstechnologie für Targetmaterialien für Halbleiter der dritten Generation, um kritische Materialien für die 5G- und neue Energiefahrzeugindustrie bereitzustellen.Förderung von Durchbrüchen in der Chip-Target-Technologie, um eine solide Materialgrundlage für die Entwicklung der nächsten Generation der KI-Technologie zu schaffen.Erweiterung der Forschung und Entwicklung von Technologien zur Rückgewinnung und Wiederverwendung von Targetmaterialien, Förderung des Konzepts der Ressourcenrückgewinnung, Reduzierung der Branchenkosten und Unterstützung einer nachhaltigen grünen Entwicklung.
Während des Symposiums ernteten die technologischen Errungenschaften und Entwicklungspläne der APG Group breite Aufmerksamkeit und hohe Anerkennung in der gesamten Branche.
Als führendes Unternehmen im Bereich der Dünnschicht-Sputtertargets wird die APG Group weiterhin technologische Innovationen vorantreiben, sich auf die heimische Produktionsschiene konzentrieren, die Industrie-Akademie-Forschungskooperation vertiefen und mehr zur innovativen Entwicklung der Dünnschichtindustrie und zur unabhängigen und kontrollierbaren Entwicklung der strategischen aufstrebenden Industrien Chinas beitragen.