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Verdunstungsmaterialien
Hochfeste Ti-Titan-Targetmaterialien Leichtgewicht Korrosionsbeständigkeit
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Ni-Ausdampfungsmaterialien Nickel-Ziel mit ausgezeichneter Zähigkeitsstärke
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Cu Verdunstungsmaterialien Hochleitfähigkeit Kupfer Ingots Pellets Stücke
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RPD ITO Target für Magnetron-Sputter-Vakuumverdampfung
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Kristallines Lanthan-Titanat LaTiO3 Sputter-Verdampfungsmaterialien für dünne Schichten
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Übergangsmetalloxid-Verdampfungsmaterialien Titandipentoxid Ti3O5
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Hochreines Tantalpentoxid Ta2O5 für optische Geräte und Halbleiter
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Dünnschichtverdampfungssputtermaterialien in Indiumblock
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Anorganische Verdampfungsmaterialien Nioboxid Nb2O5 mit hohem Brechungsindex
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Ringförmiges Quarz SiO2 Sputtertarget für Vakuumaufdampfung
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Aluminium-Silizium-Mischmetall-Materialziel Pulvermetallurgie Heißpressen Sintern
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Zirkoniumdioxid ZRO2 Keramik für Verdampfungs- und Sputterbeschichtungsprozesse
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