Zinkoxid-Sputtertargets (ZnO-Sputtertarget)

Zinkoxid-Sputterziele sind Schlüsselmaterialien für eine effiziente Dünnschichtherstellung, die im physikalischen Dampfdeposition (PVD) -Prozess weit verbreitet sind.Zinkoxid stellt eine effiziente und einheitliche Materialquelle darZinkoxid (ZnO) ist ein weißes Pulver mit hervorragenden elektrischen und optischen Eigenschaften.Die Wahl von Zinkoxid als Zielmaterial beruht vor allem auf seiner einzigartigen chemischen Stabilität und seinen hervorragenden physikalischen Eigenschaften.Diese Eigenschaften ermöglichen es ihm, während der Herstellung hochenergetischen Ablagerungsumgebungen standzuhalten und gleichzeitig seine chemische Reinheit und strukturelle Integrität zu bewahren.

Aussergewöhnliche Eigenschaften von Zinkoxid-Sputterzielen

Ich... Hohe Reinheit sorgt für Filmleistung

Zinkoxid-Sputterziele können eine Reinheit von mehr als 99,99% mit geringem Verunreinigungsgehalt erreichen, so dass die gespritzten dünnen Folien hervorragende elektrische und optische Eigenschaften aufweisen.

Ich... Ausgezeichnete optische Übertragung

Die optische Durchlässigkeit im sichtbaren Lichtbereich kann 80% übersteigen und eignet sich daher zur Herstellung von hochtransparenten optischen Filmen und transparenten leitfähigen Filmen.

Ich... Gute Leitfähigkeit (Dopable)

Durch Doping mit Elementen wie Al, Ga und B kann der Widerstand deutlich reduziert werden, was ihn zu einer umweltfreundlichen Alternative zu ITO-transparenten leitfähigen Filmen macht.

Ich... Ausgezeichnete chemische Stabilität

Es ist gegen Säure- und Alkalikorrosion beständig und hält eine stabile Leistung in Umgebungen mit hoher Temperatur und hoher Luftfeuchtigkeit bei.

Weite Anwendungsbereiche vonZinkoxid-Sputterziele

Ich... Anzeigeteile

Zinkoxid-Sputterziele können zur Herstellung von hochtransparenten und leitfähigen Filmen (die ITO ersetzen) verwendet werden.Zinkoxid-Sputterziele können die Helligkeitsgleichheit verbessern, Reaktionsgeschwindigkeit und Lebensdauer der Displays.

Ich... Herstellung optischer Geräte

Zinkoxid-Sputterziele werden zur Herstellung verschiedener optoelektronischer Geräte wie LEDs und Laserdioden verwendet.Die optischen Eigenschaften und die Leitfähigkeit von Zinkoxidfolien sind entscheidendDaher müssen die Ablagerungsbedingungen (z. B. Temperatur, Druck und Ablagerungsgeschwindigkeit) genau kontrolliert werden.

Ich... Photovoltaik-Industrie

Zinkoxid-Sputterziele spielen eine Schlüsselrolle bei der Herstellung von Solarzellen, da sie hochtransparente und leitfähige Folien liefern, die häufig traditionelle Indium-Zinn-Oxid-Schichten (ITO) ersetzen.Diese Anwendung ist besonders wichtig bei der Herstellung von Dünnschicht-Solarzellen, wobei die Optimierung der Transparenz und der Leitfähigkeit der Zinkoxidschicht unmittelbar den Gesamtwirkungsgrad des Geräts bestimmt.