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Titanborid TiB2 Keramik-Sputterziel für PVD-Beschichtung

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Ziel für das Sputtern von TiN-Titannitrid für harte Beschichtungen

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Indium-Metall-Sputtertarget Hohe Reinheit In-Target Vakuumdünnschichttechnologie

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Sputtering Zielbindung Klebstoffprozess Freundschaftliche Spannungsdämpfung

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CrC Chromcarbid-Sputtertarget Korrosionsbeständigkeit für PVD-Beschichtung

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SiC Siliziumkarbid Sputtertarget Hochtemperaturkorrosionsbeständigkeit

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Titandioxid TiOx Keramiktargets Hohe Reinheit für das Feld der Optoelektronik

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Nioboxid Nb2O5 Target für Sputtern und Pulsed Laser Deposition

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Verbundoxid-Keramiktargets IGZO Indium-Gallium-Zinkoxid-Target

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Zink-Zinn-Oxid-Ziel ZTO Keramik-Ziel Relative Dichte ≥98%

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Zinktellurid ZnTe Keramische Targets für Beschichtungsmaterialien

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Nano-Zinnindium-Zink-Kupfer-Bismuth-Cerium-Oxid-Pulver zum Elektroplattieren

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