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Einzelheiten zu den Produkten

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Keramikziele
Created with Pixso. Indium-Gallium-Zinkoxid-Suppenziel (IGZO-Suppenziel)
Ausführliche Information
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Reinheit:
99,99 %
Dichte:
≥6,30 g/cm³
Name:
Indium-Gallium-Zinkoxid-Suppenziel (IGZO-Suppenziel)
Bildungsprozess:
Sintern
Produktspezifikationen:
Flache Ziele, rotierende Ziele
Anwendungsfelder:
Anzeigetafeln, intelligente mobile Geräte, flexible und tragbare Elektronik, neue Energie und elektr
Verpackung Informationen:
Vakuumversiegelte Verpackung, kartonverpackt für Lagerung und Transport
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
Stabile Versorgung
Hervorheben:

Indium-Gallium-Zinkoxid-Supptering-Target

,

IGZO-Supptering-Ziel

,

IGZO Keramiktargets

Produkt-Beschreibung

Indium-Gallium-Zinkoxid-Sputtertarget, oder Indium-Gallium-Zinkoxid-Target, ist ein mehrkomponentiges Verbundoxid-Keramiktarget, das durch Mischen und Sintern von Indiumoxid (In₂O₃), Galliumoxid (Ga₂O₃) und Zinkoxid (ZnO) in einem bestimmten Verhältnis hergestellt wird. Es wird häufig in Magnetron-Sputterverfahren (PVD) zur Herstellung von Hochleistungs-IGZO-Dünnschichttransistoren (TFTs) eingesetzt.

Im Vergleich zu herkömmlichen amorphen Silizium- und Zinkoxidmaterialien weist das IGZO-Sputtertarget eine höhere Mobilität, einen geringeren Leckstrom und eine bessere Transparenz auf, was es zu einem Kernmaterial für hochauflösende Display-Panels der nächsten Generation (wie OLED, 4K, 8K) macht.

Herausragende Eigenschaften des Indium-Gallium-Zinkoxid-Sputtertargets

 

l Hohe Elektronenmobilität

 

Etwa 10-mal höher als bei amorphem Silizium, was die Reaktionsgeschwindigkeit von TFTs erheblich verbessert.

 

 l Geringer Leckstrom und geringer Stromverbrauch

 

Das Indium-Gallium-Zinkoxid-Sputtertarget eignet sich für energieeffiziente Anzeigegeräte und tragbare elektronische Produkte.

 

 l Hervorragende optische Transparenz

 

Hohe Transmission, wodurch es sich für Anwendungen mit hellen Displays eignet.


 l Kompatibilität mit Niedertemperatur-Filmbildung

 

Kann bei niedrigen Temperaturen abgeschieden werden, wodurch es sich für flexible Displays eignet.

 

 l Hohe Stabilität und Gleichmäßigkeit


IGZO-Sputtertarget-Filme haben dichte und stabile Zusammensetzungen, wodurch sie an Massenproduktionsanforderungen angepasst werden können.

 

Breite Anwendungen des Indium-Gallium-Zinkoxid-Sputtertargets

 

l Display-Panels

 

Das Indium-Gallium-Zinkoxid-Sputtertarget ist ein hochwertiges TFT-Material, das herkömmliches amorphes Silizium und LTPS ersetzt. Es wird häufig in hochauflösenden Anzeigegeräten eingesetzt, verbessert die Bildwiederholrate und Reaktionsgeschwindigkeit, reduziert den Stromverbrauch und eignet sich für großformatige und helle Displays.

 

 l Intelligente mobile Geräte

 

In Smartphones, Tablets und anderen mobilen Geräten optimiert IGZO die Display-Leistung und Akkulaufzeit erheblich, unterstützt dünne Designs, verlängert die Akkulaufzeit und verbessert das Touch-Erlebnis.

 

 

 l Flexible und tragbare Elektronik

 

Das Indium-Gallium-Zinkoxid-Sputtertarget eignet sich für Niedertemperatur-Filmbildungsprozesse und kann auf flexiblen Substraten wie Kunststoffen und PI abgeschieden werden. Es wird häufig in flexiblen Telefonen, E-Books, elektronischem Papier, Smartwatches, Smart Glasses und anderen tragbaren Geräten eingesetzt, ist mit flexiblen Prozessen kompatibel und gewährleistet eine gleichmäßige Filmbildung und stabile Leistung.

 

 l Neue Energie und stromsparende elektronische Geräte

 

Der geringe Leckstrom und die hohe Stabilität des IGZO-Sputtertargets machen es ideal für Geräte, die eine langfristig stabile Leistung in industriellen Anwendungen erfordern. Es eignet sich für energieeffiziente Laptops, E-Reader, Smart-Home-Steuerbildschirme, IoT-Terminals, AR/VR-Headsets und bietet einen extrem geringen Leckstrom, eine verlängerte Standby-Zeit und ein verbessertes Benutzererlebnis.