Titannitrid-Sputtertarget für Hartbeschichtungen (TiN-Sputtertarget)

Das Titannitrid-Sputterziel ist eines der weltweit am häufigsten verwendeten metallkeramischen Funktionsziele.Es verbindet die elektrische und thermische Leitfähigkeit von Metallen mit der hohen Härte und Korrosionsbeständigkeit von KeramikDurch Verfahren wie Magnetron-Sputtering können ausgewogene funktionelle Filme abgelagert werden, die einen wesentlichen Verschleißschutz für die mechanische Fertigung bieten.die hochdruckfähigen Funktionsanforderungen der Halbleiterelektronik erfüllenEs wird in hochwertigen Fertigungsbereichen wie Maschinen, Elektronik, Dekoration,Luft- und Raumfahrt, und neue Energie, was es zu einem vielseitigen Kernmaterial für verschiedene Branchen macht.

Besondere Eigenschaften von TTitaniumnitrid-Sputterziel

Ich... Ausgezeichnete Dichte

Relative Dichte ≥ 98%, wobei die Korngrößen gleichmäßig zwischen 3 und 10 μm verteilt sind, wodurch die Lichtbogenentladung während des Sputterns reduziert und die Filmzusammensetzung einheitlicher wird.

Ich... Hohe Ablagerungsrate, kein Nebel

Optimierte hohe Ablagerungsraten maximieren die Effizienz und sorgen dafür, dass die Filme durchsichtig bleiben, wobei sowohl das Aussehen als auch die Dichte gewährleistet sind.

Ich... Ultrahart und verschleißfest

Dieses Titannitrid-Sputterziel bietet eine gleichbleibende und robuste Härte von mehr als 1800 HV (Vickers-Härte).Es bietet eine Verschleißfestigkeit, die 4 bis 8 Mal höher ist als bei herkömmlichen Metallfolien, während es gleichzeitig die notwendige Zähigkeit beibehält, um Filmbrechen aktiv zu verhindern und die Integrität der Beschichtung zu gewährleisten- Ich weiß nicht.

Ich... Niedrige elektrische Widerstandsfähigkeit

Bei Raumtemperatur mit einer Widerstandsfähigkeit von ≤ 150 μΩ·cm, die die herkömmlichen keramischen Ziele weit übersteigt, so dass sie für Halbleitergate, Wärmeabsatzbeschichtungen,und andere leitfähige/thermisch leitfähige Anwendungen.

Ich... Einstellbare Farbe

Es ist natürlich golden in der Farbe und kann durch Prozessoptimierung auf Schwarz, Grau und andere Farben angepasst werden, um hochwertige dekorative Anforderungen zu erfüllen.

Weite Anwendungsbereiche von Titannitrid-Sputterzielen

Ich... Harte Beschichtungen

Titannitrid-Sputtering-Target-Beschichtungen liefern eine einheitliche, klassische goldgelbe Oberfläche, die durch außergewöhnliche Klarheit gekennzeichnet ist und völlig frei von Nebel- oder Partikelfehlern ist.Entwickelt für Langlebigkeit, die Oberfläche ist sehr resistent gegen Verblendung und Kratzer, was ein unverändertes Aussehen auch bei strenger, langfristiger Nutzung gewährleistet.Es entspricht den Umweltnormen RoHS und erhöht die Produktionseffizienz um mehr als 30%.

Ich... Herstellung von Halbleitern

Die TiN-Beschichtungen sind vollständig kompatibel mit fortgeschrittenen Knoten unterhalb von 7 nm.mit einer Leistung von mehr als 50 W und einer Leistung von mehr als 50 W, während gleichzeitig eine Steigerung der Massenproduktionseffizienz für den Sektor der Unterhaltungselektronik um 25% erzielt wird.

Ich... Optisches Feld

TiN sorgt für eine überlegene Bildklarheit und eine hohe Lichtdurchlässigkeit über alle optischen Geräte hinweg.die für die Verarbeitung von Tausenden von optischen Präzisionskomponenten pro Tag erforderliche hohe Kapazität bietet.