Chrom-Sputtertarget (Cr-Sputtertarget), Reinheit: 99,5 % - 99,95 %

Chrom ist ein silberweißes Übergangsmetall, das für seine hohe Härte und Korrosionsbeständigkeit bekannt ist. Es wird häufig in Edelstahl, hochfesten Legierungen und in der Galvanisierung verwendet. In der Dünnschichttechnologie und Mikroelektronik stellt ein Chrom-Sputtertarget das Ausgangsmaterial für die Abscheidung funktionaler und schützender Chrombeschichtungen dar und unterstützt so die Gleichmäßigkeit des Films und eine gleichbleibende Beschichtungsqualität.
Unsere Chrom-Sputtertargets sind in rotierender und planarer Konfiguration erhältlich, um unterschiedlichen Gerätespezifikationen und Abscheidungsanforderungen gerecht zu werden.

Produktoptionen

Rotierende Chrom-Targets

Chrom-Rotationstargets werden mithilfe eines fortschrittlichen thermischen Spritzverfahrens hergestellt und erreichen eine relative Dichte von95 %. Diese Produktionsmethode unterstützt eine effiziente Fertigung und kürzere Vorlaufzeiten und bietet Kostenvorteile für Großbetriebe.

Diese Ziele können in Längen von bis zu hergestellt werden4.000 mm, geeignet für eine Vielzahl industrieller Beschichtungssysteme.

Planare Chromziele

Planare Chromtargets werden durch kontrollierte Heißpress-, Sinter- und Bindungsprozesse hergestellt, was zu einem extrem niedrigen Sauerstoffgehalt führt und die Abscheidung von hellen Chromfilmen unterstützt.

Die Abmessungen können an spezifische Geräteanforderungen und Kundenspezifikationen angepasst werden.

Hervorragende Eigenschaften von Chrom-Sputtertargets

l Hohe Härte, hohe Haftung

Abgeschiedene Chromfilme sorgen für eine hohe Härte und starke Haftung auf entsprechend vorbereiteten Untergründen. Diese Eigenschaften tragen dazu bei, die Verschleißfestigkeit zu verbessern und die Haltbarkeit der Beschichtung unter anspruchsvollen mechanischen Bedingungen aufrechtzuerhalten.

l Starke Korrosionsbeständigkeit

Chromfilme bieten Korrosions- und Oxidationsbeständigkeit und tragen zum Schutz beschichteter Oberflächen in anspruchsvollen Arbeitsumgebungen bei. Die Leistung variiert je nach Beschichtungsstruktur, Ablagerungsbedingungen und chemischer Belastung.

l Gute elektrische Leitfähigkeit und thermische Stabilität

Die elektrische Leitfähigkeit und die thermischen Eigenschaften von Chrom unterstützen seinen Einsatz in funktionellen Dünnfilmen für elektronische Komponenten und Anwendungen mit erhöhten Temperaturen.

Breite Anwendungen von Chrom-Supttering-Targets

l Halbleiterfertigung

Mit einem Chrom-Sputtertarget werden Funktions- und Schutzschichten für Halbleiterbauteile und elektronische Verpackungen abgeschieden. Geeignete Beschichtungsdesigns tragen dazu bei, die Haltbarkeit der Oberfläche sowie die Kratz- und Korrosionsbeständigkeit zu verbessern und unterstützen so die Zuverlässigkeit elektronischer Präzisionskomponenten.

l Dekorative Beschichtungen

Chrom-Sputtertargets werden in Vakuumbeschichtungsprozessen für Uhren, Haushaltsgeräte und andere Konsumgüter verwendet. Die abgeschiedenen Filme erzeugen glänzende metallische Oberflächen, die optische Attraktivität mit Korrosionsbeständigkeit und Oberflächenschutz verbinden.