Titanoxid-Rotationssputtertarget (Tiox-Sputtertarget)

Titanoxid-Sputtertargets sind keramische Targets aus hochreinem Titandioxid (TiOx), die durch Verfahren wie Heißpresssintern oder Kaltisostatisches Pressen hergestellt werden. Sie zeichnen sich durch hohe Härte, hohen Schmelzpunkt (ca. 1855 °C) und ausgezeichnete chemische Stabilität aus, was sie zu einem wichtigen Material für das Magnetronsputtern zur Herstellung optischer und funktionaler Filme macht.

Hervorragende Eigenschaften von Titanoxid-Sputtertargets (TiOx)

l Hohe Reinheit gewährleistet Filmqualität

Titanoxid-Targets haben typischerweise eine Reinheit von ≥ 99,9 % mit sehr geringem Verunreinigungsgehalt, was Filmdefekte effektiv reduziert und die Stabilität der optischen und elektrischen Leistung verbessert.

l Ausgezeichnete chemische Stabilität

Titanoxid-Sputtertargets sind beständig gegen Säure- und Alkalikorrosion und behalten ihre stabile Leistung in rauen Umgebungen wie hoher Temperatur und hoher Luftfeuchtigkeit bei, was die Lebensdauer der Filme verlängert.

l Hervorragende optische Eigenschaften

Sie weisen einen hohen Brechungsindex und eine ausgezeichnete Transmission auf, was die Herstellung von Hochleistungs-Optikfilmen für Antireflexbeschichtungen (AR), Blendschutzbeschichtungen usw. ermöglicht.

l Dichte und gleichmäßige Mikrostruktur

Durch fortschrittliche Formgebungs- und Sinterverfahren verfügt das Titanoxid-Targetmaterial über feine und gleichmäßige Partikel, die eine stabile Abscheiderate und eine gute Dickenkonstanz gewährleisten.

l Gute mechanische Festigkeit und Hitzebeständigkeit

Mit einem Schmelzpunkt von ca. 1855 °C sind Titanoxid-Targets beständig gegen Rissbildung oder Beschädigung unter Hochleistungs-Sputterbedingungen, was sie für die langfristige kontinuierliche Produktion geeignet macht.

 Breite Anwendungen von Titanoxid-Sputtertargets (TiOx)

l Herstellung optischer Geräte

Titanoxid-Targets werden zur Herstellung von Filmen mit hohem Brechungsindex für optische Linsen, Antireflexbeschichtungen (AR-Beschichtungen), Blendschutzfilme und optische Filter verwendet, wodurch die Lichttransmission und Bildqualität verbessert wird.

l Photovoltaikindustrie

Als Schutz- oder Funktionsschichten in transparenten leitfähigen Filmen (TCO) verbessern Titanoxid-Targets die Lichtabsorptionseffizienz und die Geräte-Stabilität und werden häufig bei der Herstellung von Solarzellen und photokatalytischen Filmen eingesetzt.

l Halbleiterfertigung

Titanoxid-Sputtertargets werden als dielektrische Schichten, Schutzfilme und Isoliermaterialien verwendet, um die Stabilität und Isolationsleistung von Chips und elektronischen Geräten zu verbessern.

l Energieeffizienzglas (Low-E)

Titanoxid-Targets dienen als wichtige funktionale Schichtmaterialien, die zur Verbesserung der Wärmeisolierung und Lichttransmission von Glas entwickelt wurden. Diese Eigenschaften reduzieren effektiv den Energieverbrauch, was zu ihrer breiten Anwendung in fortschrittlichen energieeffizienten Gebäudelösungen führt.