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CrC क्रोमियम कार्बाइड स्पटरिंग लक्ष्य पीवीडी कोटिंग के लिए संक्षारण प्रतिरोध
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अनुकूलन योग्य आकार क्रोमियम लक्ष्य रोटरी / प्लैनर सीआर स्पटरिंग लक्ष्य
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वैक्यूम पिघलने एल्यूमीनियम लक्ष्य आधुनिक पतली फिल्म प्रौद्योगिकी
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उच्च शुद्धता TiAl धातु स्पटरिंग लक्ष्य टाइटेनियम एल्यूमीनियम लक्ष्य
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यटरबियम Yb दुर्लभ पृथ्वी धातु स्पटरिंग लक्ष्य उच्च घनत्व एकरूपता
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धातु निओबियम स्पटरिंग लक्ष्य उच्च घनत्व कम प्रतिरोध एनबी लक्ष्य
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CuNi कॉपर निकल मिश्र धातु लक्ष्य
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नैनो टिन इंडियम जिंक कॉपर बिस्मथ सेरियम ऑक्साइड पाउडर इलेक्ट्रोप्लेटिंग के लिए
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फ्लैट / रोटेटिंग AlSc एल्यूमीनियम स्कैंडियम स्पटरिंग टारगेट
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वाष्पीकरण स्पटरिंग कोटिंग प्रक्रियाओं के लिए जिरकोनियम डाइऑक्साइड ZRO2 सिरेमिक
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स्पटरिंग पल्स्ड लेजर डिपोजिशन के लिए नाइओबियम ऑक्साइड Nb2O5 टारगेट
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जिंक टिन ऑक्साइड लक्ष्य ZTO सिरेमिक लक्ष्य सापेक्ष घनत्व ≥98%
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मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग वाष्पीकरण आयन प्लेटिंग के लिए पीटी प्लैटिनम लक्ष्य
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अकार्बनिक अनाकार काँच पाउडर उच्च शुद्धता कम अशुद्धियाँ
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