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क्रोमियम स्पटरिंग लक्ष्य (Cr स्पटरिंग लक्ष्य), शुद्धता: 99.5%-99.95%
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नाइओबियम स्पटरिंग लक्ष्य (एनबी स्पटरिंग लक्ष्य)
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सिलिकॉन स्पटरिंग टारगेट (Si स्पटरिंग टारगेट)
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टाइटेनियम ऑक्साइड रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य (टायॉक्स स्पटरिंग लक्ष्य)
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कॉपर-निकल स्पटरिंग लक्ष्य (CuNi स्पटरिंग लक्ष्य)
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नैनो टिन इंडियम जिंक कॉपर बिस्मथ सेरियम ऑक्साइड पाउडर इलेक्ट्रोप्लेटिंग के लिए
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एल्यूमिनियम स्कैंडियम स्पटरिंग लक्ष्य (एएलएससी स्पटरिंग लक्ष्य)
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वाष्पीकरण स्पटरिंग कोटिंग प्रक्रियाओं के लिए जिरकोनियम डाइऑक्साइड ZRO2 सिरेमिक
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जिंक टिन ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य सिरेमिक लक्ष्य (जेडटीओ स्पटरिंग लक्ष्य) सापेक्ष घनत्व ≥98%
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उच्च शुद्धता प्लेटिनम स्पटरिंग लक्ष्य (पीटी लक्ष्य)
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उच्च शुद्धता अकार्बनिक अनाकार ग्लास पाउडर
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