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उच्च शुद्धता टेरबियम स्पटरिंग लक्ष्य (टीबी स्पटरिंग लक्ष्य)
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चीनी तांबा स्पटरिंग लक्ष्य(Cu स्पटरिंग लक्ष्य)
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इंडियम स्पटरिंग लक्ष्य (स्पटरिंग लक्ष्य में)
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उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटर लक्ष्य (टीआई स्पटर लक्ष्य)
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निकेल स्पटरिंग लक्ष्य (Ni स्पटरिंग लक्ष्य), शुद्धता: 99.99%
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पीवीडी कोटिंग के लिए टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य (W)
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उच्च शुद्धता एल्यूमीनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य (Al₂O₃ स्पटरिंग लक्ष्य)
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सिलिकॉन कार्बाइड स्पटरिंग लक्ष्य (SiC स्पटरिंग लक्ष्य)
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उच्च प्रतिरोध स्पटरिंग लक्ष्य (GXO स्पटरिंग लक्ष्य)
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उच्च शुद्धता ग्रेफाइट स्पटरिंग लक्ष्य (सी स्पटरिंग लक्ष्य)
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सिल्वर स्पटरिंग लक्ष्य ((एजी स्पटरिंग लक्ष्य)
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पीवीडी के लिए उच्च शुद्धता टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य (टा स्पटरिंग लक्ष्य)।
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उच्च शुद्धता ज़िरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्य (जेडआर स्पटरिंग लक्ष्य)
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एल्यूमीनियम नियोडियम स्पटरिंग लक्ष्य (AlNd स्पटरिंग लक्ष्य)
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टंगस्टन कार्बन स्पटरिंग लक्ष्य (WC स्पटरिंग लक्ष्य)
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