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एल्यूमिनियम स्पटरिंग लक्ष्य (अल स्पटरिंग लक्ष्य)
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उच्च शुद्धता एल्यूमीनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य (Al₂O₃ स्पटरिंग लक्ष्य)
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पीवीडी कोटिंग के लिए टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य (W)
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सोना स्पटरिंग लक्ष्य 99.99% शुद्धता (एयू स्पटरिंग लक्ष्य)
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टंगस्टन कार्बन स्पटरिंग लक्ष्य (WC स्पटरिंग लक्ष्य)
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क्रोमियम कार्बाइड स्पटरिंग लक्ष्य (सीआरसी स्पटरिंग लक्ष्य)
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मिश्र धातु लक्ष्य निकेल क्रोमियम सप्लायरिंग लक्ष्य (NiCr सप्टरिंग लक्ष्य)
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उच्च शुद्धता टाइटेनियम एल्युमीनियम स्पटरिंग लक्ष्य (TiAl स्पटरिंग लक्ष्य)
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उच्च शुद्धता ग्रेफाइट स्पटरिंग लक्ष्य (सी स्पटरिंग लक्ष्य)
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जिंक-टिन स्पटरिंग लक्ष्य (ZnSn स्पटरिंग लक्ष्य)
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उच्च शक्ति टी टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री हल्के संक्षारण प्रतिरोध
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प्रेसिजन वाटर चैनल स्पटरिंग लक्ष्य समर्थन प्लेटों बंधन आसंजन > 98%
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उत्कृष्ट तन्यता और मजबूती वाली Ni वाष्पीकरण सामग्री निकेल लक्ष्य
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