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स्पटरिंग लक्ष्य बंधन चिपकने वाली प्रक्रिया अनुकूल तनाव बफरिंग
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कॉपर-निकल स्पटरिंग लक्ष्य (CuNi स्पटरिंग लक्ष्य)
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उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटर लक्ष्य (टीआई स्पटर लक्ष्य)
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उच्च शुद्धता मोलिब्डेनम नाइओबियम स्पटरिंग लक्ष्य (मोनब स्पटरिंग लक्ष्य)
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इंडियम स्पटरिंग लक्ष्य (स्पटरिंग लक्ष्य में)
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टाइटेनियम बोराइड स्पटरिंग लक्ष्य (TiB2 सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य)
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उच्च प्रतिरोध स्पटरिंग लक्ष्य (GXO स्पटरिंग लक्ष्य)
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जिंक स्पटरिंग लक्ष्य (Zn स्पटरिंग लक्ष्य) पतली फिल्म सामग्री
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एल्यूमीनियम नियोडियम स्पटरिंग लक्ष्य (AlNd स्पटरिंग लक्ष्य)
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निकेल स्पटरिंग लक्ष्य (Ni स्पटरिंग लक्ष्य), शुद्धता: 99.99%
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क्रोमियम स्पटरिंग लक्ष्य (Cr स्पटरिंग लक्ष्य), शुद्धता: 99.5%-99.95%
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सिलिकॉन स्पटरिंग टारगेट (Si स्पटरिंग टारगेट)
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सिलिकॉन-एल्यूमीनियम स्पटरिंग लक्ष्य (SiAl स्पटरिंग लक्ष्य)
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टंगस्टन टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य (डब्ल्यूटीआई स्पटरिंग लक्ष्य)
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चीनी तांबा स्पटरिंग लक्ष्य(Cu स्पटरिंग लक्ष्य)
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