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स्पटरिंग लक्ष्य बंधन चिपकने वाली प्रक्रिया अनुकूल तनाव बफरिंग
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CuNi कॉपर निकल मिश्र धातु लक्ष्य
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99.5% - 99.95% शुद्धता टाइटेनियम स्पटर लक्ष्य संक्षारण प्रतिरोध Ti लक्ष्य
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MoNb धातु स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता मोलिब्डेनम नाइओबियम लक्ष्य
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जिंक टिन ऑक्साइड लक्ष्य ZTO सिरेमिक लक्ष्य सापेक्ष घनत्व ≥98%
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इंडियम धातु स्पटरिंग लक्ष्य लक्ष्य वैक्यूम पतली फिल्म प्रौद्योगिकी में उच्च शुद्धता
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ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के लिए एल्यूमीनियम नियोडियम एआईएनडी लक्ष्य
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नीकल स्पटरिंग लक्ष्य संक्षारण प्रतिरोध फ्लैट लक्ष्य घूर्णन लक्ष्य
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SiAI धातु स्पटरिंग लक्ष्य सिलिकॉन एल्यूमीनियम लक्ष्य रासायनिक स्थिरता
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टाइटेनियम बोराइड TiB2 सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य PVD कोटिंग के लिए
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उच्च प्रतिरोध GXO लक्ष्य निर्माण प्रक्रिया सिंटरिंग कस्टम शेप्ड
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उत्कृष्ट विद्युत चालकता वाली Zn जिंक स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री
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अनुकूलन योग्य आकार क्रोमियम लक्ष्य रोटरी / प्लैनर सीआर स्पटरिंग लक्ष्य
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उच्च शुद्धता स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री सेमीकंडक्टर निर्माण के लिए सीआई लक्ष्य
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डब्ल्यूटीआई टंगस्टन टाइटेनियम लक्ष्य अनुपात 90:10 अनुकूलन योग्य आकार
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धातु समर्थन लक्ष्य के लिए उच्च घनत्व डब्ल्यू वोल्फ्रेम लक्ष्य
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