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Target Rotante / Planare di Cromo Personalizzabile per Sputtering Cr

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Materiale per bersaglio di sputtering ad alta purezza Si Target per la produzione di semiconduttori  

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Proporzione di tungsteno e titanio WTi 90:10 Dimensioni personalizzabili

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Bersaglio di metallo ad alta durezza per sputtering, resistente all'usura, bersaglio di tungsteno-carbonio WC

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Fusione a vuoto Al Aluminio Target Tecnologia moderna del film sottile

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Bersaglio di sputtering in oro Au purezza 99,99% con conducibilità estremamente elevata

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