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Dettagli dei prodotti

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Bersaglio di sputtering metallico
Created with Pixso. Obiettivo di sputtering dell'oro Purezza del 99,99% (obiettivo di sputtering Au)
Informazione dettagliata
Luogo di origine:
Cina
Certificazione:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Purezza:
99,99%
Densità:
19,32 g/cm³
nome:
Obiettivo di sputtering dell'oro Purezza del 99,99% (obiettivo di sputtering Au)
Processo di formazione:
Fusione
Specifiche del prodotto:
Bersagli piatti, Bersagli rotanti
Campi di applicazione:
Produzione di semiconduttori, dispositivi optoelettronici, rivestimenti decorativi
Imballaggi particolari:
Imballaggio sottovuoto, imballato in cartoni per lo stoccaggio e il trasporto
Capacità di alimentazione:
Rifornimento stabile
Evidenziare:

Bersaglio di sputtering in oro ad alta purezza

,

Obiettivo sputtering Au

,

Obiettivo di sputtering dell'oro

Descrizione di prodotto

Il target di sputtering all'oro è un target di sputtering realizzato in oro (Au) di elevata purezza, con conducibilità estremamente elevata, buona duttilità, eccellente resistenza all'ossidazione e stabilità chimica. È ampiamente utilizzato in campi quali semiconduttori, dispositivi microelettronici, dispositivi optoelettronici e rivestimenti decorativi. Grazie alla sua intrinseca inerzia chimica e alle sue impareggiabili caratteristiche elettriche, i target di oro sono una base indispensabile per la produzione di precisione e il settore dell'elettronica di fascia alta. La loro capacità di mantenere le prestazioni in ambienti estremi garantisce l'affidabilità a lungo termine dei componenti critici

Proprietà Eccezionali del Target di Sputtering all'Oro

 


l Elevata Conducibilità e Elevata Duttilità

 

Adatto per circuiti ultra-fini e produzione di dispositivi microelettronici di fascia alta.

 

 

l Eccellente Stabilità Chimica


Non si ossida o corrode facilmente, adatto per applicazioni in ambienti difficili.

 

 

l Elevata Purezza


Tipicamente purezza ≥99,99%, garantendo prestazioni costanti del film.

 

 

l Buona Adesione


Può formare film densi e uniformi su una varietà di substrati.

 

Ampie Applicazioni del Target di Sputtering all'Oro

 

l Produzione di Semiconduttori


I target di sputtering all'oro sono ampiamente utilizzati nella produzione di chip semiconduttori per elettrodi, interconnessioni e strati di bump. Migliora significativamente la conducibilità e l'affidabilità a lungo termine dei dispositivi grazie all'elevatissima conducibilità e stabilità chimica dell'oro, che lo rende particolarmente adatto per circuiti integrati su larghissima scala (VLSI) e tecnologie di packaging avanzate.

 

 

l Dispositivi Optoelettronici


Nell'industria optoelettronica, il target di sputtering all'oro viene utilizzato per il rivestimento di elettrodi in celle solari, rivelatori a infrarossi, LED e dispositivi laser. I film d'oro offrono eccellente riflettività e stabilità, migliorando l'efficienza di conversione fotovoltaica e prolungando la durata dei dispositivi, rendendoli indispensabili nei componenti optoelettronici ad alte prestazioni.

 

 

l Rivestimenti Decorativi


Con la sua naturale lucentezza metallica e resistenza alla corrosione, i target di oro sono ampiamente utilizzati nei rivestimenti decorativi per orologi di alta gamma, beni di lusso e prodotti elettronici di consumo, fornendo un aspetto lussuoso garantendo al contempo stabilità a lungo termine e resistenza allo sbiadimento o alla corrosione.