금 타겟은 고순도 금(Au)으로 만들어진 스퍼터링 타겟으로, 극도로 높은 전도성, 우수한 연성, 뛰어난 산화 저항성 및 화학적 안정성을 특징으로 합니다. 반도체, 미세 전자 장치, 광전자 장치 및 장식 코팅과 같은 분야에서 널리 사용됩니다. 고유의 화학적 불활성과 탁월한 전기적 특성으로 인해 금 타겟은 정밀 제조 및 하이엔드 전자 산업의 필수적인 기반입니다. 극한 환경에서도 성능을 유지하는 능력은 중요 부품의 장기적인 신뢰성을 보장합니다.
l 높은 전도성과 높은 연성
초미세 회로 및 하이엔드 미세 전자 장치 제조에 적합합니다.
l 뛰어난 화학적 안정성
산화 또는 부식되기 어렵고 열악한 환경 응용 분야에 적합합니다.
l 고순도
일반적으로 순도 99.99% 이상으로 일관된 박막 성능을 보장합니다.
l 우수한 접착력
다양한 기판에 조밀하고 균일한 박막을 형성할 수 있습니다.
l 반도체 제조
금 스퍼터링 타겟은 전극, 상호 연결 및 범프 레이어에 사용되는 반도체 칩 제조에 널리 사용됩니다. 금의 극도로 높은 전도성과 화학적 안정성으로 인해 장치의 전도성과 장기적인 신뢰성을 크게 향상시키며, 이는 초고밀도 집적 회로(VLSI) 및 고급 패키징 기술에 특히 적합합니다.
l 광전자 장치
광전자 산업에서 금 스퍼터링 타겟은 태양 전지, 적외선 감지기, LED 및 레이저 장치의 전극 코팅에 사용됩니다. 금 박막은 뛰어난 반사율과 안정성을 제공하여 광전 변환 효율을 향상시키고 장치 수명을 연장하여 고성능 광전자 부품에 필수적입니다.
l 장식 코팅
천연 금속 광택과 내식성으로 인해 금 타겟은 하이엔드 시계, 명품 및 전자 소비재의 장식 코팅에 널리 사용되어 고급스러운 외관을 제공하는 동시에 장기적인 안정성과 퇴색 또는 부식에 대한 저항성을 보장합니다.