金属スパッタリングターゲット用高密度タングステンターゲット

高性能 材料 の 究極 的 な 選択

主にウランから構成されるウラン標的材料は,ユニークな物理的および化学的特性により,多くのハイテク分野において不可欠な役割を果たしています.

タングメン ターゲットの 優れた 特質

わかった 高度な純度

高純度元素金属標的材料から製造され,純度99.9%~99.99%で,蒸発,コーティング,スプッター,その他の用途に適しています.

 わかった 高密度

密度は約19.25g/cm3で,この非常に高い密度は,放出されたウラン原子に高い運動エネルギーを与え,密集した,強く結合した薄膜を形成します.フィルムの内部欠陥を軽減する.

わかった 低酸素量

ホットプレスで酸素含有量は20ppm未満,スプレーコーティングで酸素含有量は2000ppm未満です.

わかった Excellent Corrosion Resistance (優れた腐食耐性) について

ワルフスタン は 幅広い 酸,塩基,溶解 金属 に 優れた 耐性 を 発揮 し て い ます.この固有の化学的慣性により,攻撃的な化学環境や腐食性先駆ガスを含む堆積プロセスでは例外的な安定性を保証します.

 ワルフタン 標的 の 広範囲 の 応用

わかった 機能性コーティング

タングスタンフィルムは銀色白色で,光り輝きが良く,化学的安定性が強く,高級の装飾用コーティング (時計や医療機器のコーティングなど) として使用できます.導電性と酸化抵抗性により,電極表面塗装に適しています.電極の寿命と安定性を向上させる.

わかった X線 技術

高原子数 (Z=74),高密度,高溶融点により,トンフレム標的材料は,X線機器に広く使用されています.高速の電子が,X線を生成するために,トンフレム標的を打つタングスタン は 高温 に 耐え,高エネルギー の X 線 を 効率 的 に 生み出し, 高い 画像 清晰さ を 提供 し, 医療 診断 や 産業 破壊 しない 試験 に 適し.タングステンの安定性と優れた熱伝導性は 高性能のX線源にとって不可欠な材料となっています

わかった 半導体産業

半導体製造において,ターンフスタン標的材料は,金属の相互接続層を形成するための物理蒸気堆積 (PVD) プロセスで一般的に使用される.低抵抗性と良質な伝導性があるため電子チップの電気効率と信頼性を向上させ,コンタクトプラグや局所接続構造の形成にアルミニウムを代替することができる.タングステン の 優れた 堆積 特性 と シリコン に しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり しっかり し.

わかった フォトウオルタキック産業

太陽電池の製造では,ウランターミンの標的材料は,電極の薄膜を戻したり,機能的な金属フィルムの一部として使用されます.特に,陽子交換膜燃料電池 (PEMFC) では,ウォルフスタン は 双極板 の 壁 層 として 用い られ ますさらに,高温環境では熱安定性が優れています.複雑な環境における光伏モジュールの運用信頼性と変換効率の向上.

 わかった 航空宇宙及び原子力産業の保護層

宇宙船の熱保護
ワルフタンフィルムは,ロケットエンジンのノズルや宇宙船の再入力部品に使用され,極端な高温 (数千度C) と熱ショックから保護されます.内部構造の保護.

 わかった 原子力産業の構成要素:

放射線抵抗性,高温性,中性子吸収性の低い横断性で知られるワルフスタンフィルムは,原子炉の標的,シールド材料,核融合装置の最初の壁コーティング (e)高エネルギー粒子爆撃と極端な熱条件に耐えられる.