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Detalles de los productos

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Objetivo de pulverización de metales
Created with Pixso. Diana de tungsteno de alta densidad para pulverización catódica de metales
Información detallada
Lugar de origen:
Porcelana
Certificación:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Nombre:
Objetivo de tungsteno (W)
Pureza:
99,9% - 99,99%
Densidad relativa:
90%
Proceso de formación:
Recubrimiento por pulverización, prensado en caliente
Especificaciones del producto:
Objetivos planos, objetivos giratorios, objetivos con formas personalizadas
Campos de aplicación:
Recubrimientos funcionales, tecnología de rayos X, industria de semiconductores, industria fotovolta
Detalles de empaquetado:
Envasado al vacío, embalado en cajas para almacenamiento y transporte.
Capacidad de la fuente:
Fuente estable
Resaltar:

Diana de evaporación de tungsteno

,

Diana de recubrimiento de tungsteno

,

Diana de pulverización catódica de tungsteno (W)

Descripción de producto

Objetivo de Tungsteno: La elección definitiva para materiales de alto rendimiento

El material objetivo de tungsteno, compuesto principalmente de tungsteno, desempeña un papel indispensable en muchos campos de alta tecnología debido a sus propiedades físicas y químicas únicas.

Propiedades destacadas del objetivo de tungsteno

 

l Alta pureza

 

Fabricado con material objetivo de metal elemental de alta pureza, con una pureza del 99,9 % al 99,99 %, adecuado para evaporación, recubrimiento, pulverización y otras aplicaciones.

 

 l Alta densidad

 

Con una densidad de aproximadamente 19,25 g/cm³, esta alta densidad confiere a los átomos de tungsteno expulsados una alta energía cinética, formando películas delgadas densas y fuertemente unidas, lo que reduce los defectos internos en las películas.

 

l Bajo contenido de oxígeno

 

El contenido de oxígeno en el prensado en caliente es inferior a 20 ppm, el contenido de oxígeno en el recubrimiento por pulverización es inferior a 2000 ppm.

 

l Excelente resistencia a la corrosión

 

El tungsteno exhibe una resistencia superior a una amplia gama de ácidos, bases y metales fundidos. Esta inercia química inherente garantiza una estabilidad excepcional durante los procesos de deposición que involucran entornos químicos agresivos o gases precursores corrosivos.

 Amplias aplicaciones del objetivo de tungsteno

 

l Recubrimientos funcionales

 

Las películas de tungsteno son de color blanco plateado con buen brillo y fuerte estabilidad química y pueden usarse como recubrimientos decorativos de alta gama (por ejemplo, para relojes y carcasas de dispositivos médicos). Además, su conductividad y resistencia a la oxidación las hacen adecuadas para recubrimientos de superficies de electrodos, mejorando la vida útil y la estabilidad de los electrodos.

 

l Tecnología de rayos X

 

Debido a su alto número atómico (Z=74), alta densidad y alto punto de fusión, el material objetivo de tungsteno se utiliza ampliamente en equipos de rayos X. En los tubos de rayos X, los electrones de alta velocidad impactan el objetivo de tungsteno para generar rayos X. El tungsteno puede soportar altas temperaturas y producir eficientemente rayos X de alta energía, proporcionando una alta claridad de imagen, que es adecuada para diagnósticos médicos y pruebas no destructivas industriales. La estabilidad y la excelente conductividad térmica del tungsteno lo convierten en un material esencial para fuentes de rayos X de alto rendimiento.

 

l Industria de semiconductores

 

En la fabricación de semiconductores, los materiales objetivo de tungsteno se utilizan comúnmente en procesos de deposición física de vapor (PVD) para formar capas de interconexión metálica. Debido a su baja resistividad y buena conductividad, el tungsteno puede reemplazar al aluminio para formar tapones de contacto y estructuras de interconexión local, mejorando la eficiencia eléctrica y la fiabilidad de los chips. Las excelentes propiedades de deposición y la buena adhesión del tungsteno al silicio lo convierten en un metal insustituible en la fabricación de chips lógicos y de memoria avanzados.

 

l Industria fotovoltaica

 

En la fabricación de células solares, el material objetivo de tungsteno se utiliza para depositar películas delgadas de electrodos posteriores o como parte de películas metálicas funcionales. Específicamente, para las pilas de combustible de membrana de intercambio de protones (PEMFC), el tungsteno se utiliza como capa de barrera en las placas bipolares, evitando la difusión de molibdeno y mejorando la estabilidad a largo plazo del dispositivo. Además, el tungsteno mantiene una excelente estabilidad térmica en entornos de alta temperatura, mejorando la fiabilidad operativa y la eficiencia de conversión de los módulos fotovoltaicos en entornos complejos.

 

 l Capas de protección para la industria aeroespacial y nuclear

 

Protección térmica de naves espaciales
Las películas de tungsteno se utilizan en las toberas de los motores de cohetes y en los componentes de reentrada de las naves espaciales para proteger contra temperaturas extremadamente altas (miles de grados Celsius) y choques térmicos, salvaguardando las estructuras internas.

 

 l Componentes de la industria nuclear:


Las películas de tungsteno, conocidas por su resistencia a la radiación, altas temperaturas y baja sección transversal de absorción de neutrones, se utilizan en objetivos de reactores nucleares, materiales de blindaje o recubrimientos de la primera pared de dispositivos de fusión (por ejemplo, tokamaks), donde soportan el bombardeo de partículas de alta energía y condiciones térmicas extremas.