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商品の詳細

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金属スパッタリングターゲット
Created with Pixso. 高硬度金属スパッタリングターゲット 耐摩耗性 WC タングステン炭化物ターゲット
詳細情報
起源の場所:
中国
証明:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
純度:
99.9%-99.95%
名前:
タングステンカーボンターゲット(WC)
形成プロセス:
平面ターゲット: ホットプレス、回転ターゲット: スプレー
製品仕様:
平面ターゲット、回転ターゲット、不規則な形状のターゲット
応用分野:
ハードコーティング、半導体製造、エネルギー分野
パッケージの詳細:
真空密封包装、保管および輸送用にケース詰め
供給の能力:
安定した供給
ハイライト:

高硬度金属スパッタリングターゲット

,

金属スパッタリングターゲット 耐摩耗性

,

WC タングステン炭化物ターゲット

製品の説明

タングステンカーバイドターゲット(WC)は、高融点・高硬度のタングステンと、優れた耐摩耗性を持つ炭素を一定の割合で組み合わせた機能性ターゲット材料の一種です。非常に高い密度と均一性を特徴としています。主にマグネトロンスパッタリング、イオンプレーティングなどの真空成膜プロセスで使用され、優れた特性を持つ薄膜を製造します。

タングステンカーバイドターゲットの主な利点

 

l 高い硬度と耐摩耗性

 

タングステンと炭素の組み合わせによりカーバイド様の構造が形成され、高い硬度と強力な耐摩耗性を持つ薄膜が得られ、高負荷で過酷な作業条件に適しています。

 

 

l 高融点と耐熱性

 

タングステンは最大3410℃の融点を持ち、炭素も優れた高温耐性を持つため、ターゲットとコーティングは高温環境下で安定性を保ちます。

 

 

l 優れた密着性と高い圧縮強度

 

成膜された膜は基材にしっかりと密着し、優れた化学的安定性を持ち、デバイスの耐用年数を延ばします。

 

タングステンカーバイドターゲットの主な用途

 

l 硬質コーティング

 

工具、金型、カッターなどの硬質コーティングに広く使用されており、WCやW-C膜は工具の耐摩耗性と耐用年数を向上させます。

 

 

l 半導体製造

 

半導体デバイスやマイクロ電気機械システム(MEMS)で安定した薄膜を製造するためのバリア層、導電層、または機能層材料として使用できます。

 

 

l エネルギー分野

 

太陽電池製造では、タングステンカーバイドターゲットが反射層または導電層の成膜に使用され、デバイスの効率を向上させます。タングステンカーバイドターゲットは、原子力発電所や極めて高エネルギー環境向けの高温・放射線耐性コンポーネントの製造に利用されます。さらに、熱電変換デバイスへの統合は、熱回収と全体的なエネルギー利用効率を大幅に向上させます。