Detalles de los productos
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Óxido de Niobio Nb2O5 Blanco para Deposición por Láser Pulsado
| Nombre De La Marca: | APG |
| El Tiempo De Entrega: | 4-5 semanas |
| Condiciones De Pago: | T/T |
Blanco de Óxido de Niobio para Sputtering
,Blanco de Óxido de Niobio Nb2O5
,Blanco Nb2O5 para Deposición por Láser Pulsado
El objetivo de óxido de niobio es un objetivo cerámico de óxido funcional importante que se utiliza comúnmente en pulverización catódica, deposición por láser pulsado (PLD) y otros procesos de deposición de películas delgadas. Este objetivo tiene buena estabilidad química y propiedades eléctricas, junto con una excelente transparencia y propiedades antirreflectantes.
Propiedades Sobresalientes del Objetivo de Óxido de Niobio (Nb₂Oₓ)
l Estabilidad Química
El óxido de niobio demuestra una estabilidad excepcional a temperatura ambiente, mostrando una reacción mínima con ácidos y bases. Esto lo hace ideal para aplicaciones en entornos químicamente corrosivos, manteniendo un rendimiento estable en condiciones químicas adversas.
l Rendimiento Electroquímico
El óxido de niobio exhibe una excelente estabilidad electroquímica y propiedades de transporte de electrones, lo que lo convierte en un material ideal para dispositivos de almacenamiento de energía como baterías y condensadores.
l Propiedades Ópticas Sobresalientes
El objetivo de óxido de niobio tiene un alto índice de refracción y características de baja dispersión, lo que lo convierte en un material ideal para la producción de elementos ópticos como filtros y recubrimientos de lentes.
l Propiedades Aislantes Eléctricas
El óxido de niobio es un excelente aislante eléctrico con una alta constante dieléctrica, lo que lo hace particularmente importante en las industrias de microelectrónica y semiconductores.
Amplias Aplicaciones del Objetivo de Óxido de Niobio (Nb₂Oₓ)
l Dispositivos Electrónicos
La aplicación principal del objetivo de óxido de niobio se encuentra en dispositivos electrónicos, aprovechando la alta constante dieléctrica (ε≈25-40), la baja densidad de corriente de fuga y las propiedades semiconductoras de las películas de Nb₂O₅.
l Óptica
Las películas de Nb₂O₅ tienen un alto índice de refracción (1.9-2.3 en el rango de luz visible), alta transparencia (≥90%) y estabilidad óptica. El alto índice de refracción y la buena transparencia óptica del óxido de niobio hacen que las películas se utilicen ampliamente en guías de onda ópticas, recubrimientos antirreflectantes y detectores fotoeléctricos, mejorando significativamente el rendimiento óptico y la eficiencia de los dispositivos.
l Memoria Dinámica de Acceso Aleatorio (DRAM)
El objetivo de óxido de niobio se utiliza como capa dieléctrica de alta constante dieléctrica en las celdas de almacenamiento DRAM, reemplazando a las tradicionales SiO₂ y HfO₂, lo que permite una mayor capacitancia en la misma área y logrando una integración de alta densidad de memoria.
