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Metall-Niob-Sputtertarget Hohe Dichte Niedriger Widerstand Nb-Target

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Mo Metall Sputtering Ziel Molybdän Sputtering Ziel

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Hochreinigkeitsdichte Einheitlichkeit Al2O3 Aluminiumoxid-Sputterziel

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990,5% - 99,95% Reinheit Titan Sputter Ziel Korrosionsbeständigkeit Ti Ziel

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Zinktellurid ZnTe Keramische Targets für Beschichtungsmaterialien

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Ringförmiges Quarz SiO2 Sputtertarget für Vakuumaufdampfung

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