| Markenbezeichnung: | APG |
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Terbium-Targets werden aus hochreinem Terbium (Tb) als Hauptbestandteil hergestellt und sind wichtige Sputtertargets aus Seltenerdmetallen. Mit ihren hohen magnetostriktiven Eigenschaften, ausgezeichneter thermischer Stabilität und chemischer Stabilität werden Terbium-Targets häufig in magnetischen Filmen, optischen Beschichtungen, halbleiterfunktionalen Filmen, der Kernenergie und im Bereich der Forschungsmaterialien eingesetzt. Diese Targets werden mit fortschrittlichen Verfahren wie Vakuumschmelzen und Heißisostatisches Pressen (HIP) hergestellt und weisen eine hohe Dichte und eine gleichmäßige Mikrostruktur auf, die den strengen Anforderungen von High-End-Elektronik und Funktionsfilmen gerecht werden.
l Hohe Reinheit und hohe Dichte
Das Target ist dicht und gleichmäßig mit einer Reinheit von ≥99,9%, was Poren und Einschlüsse reduziert und die Qualität der Filmschicht verbessert.
l Ausgezeichnete magnetische Eigenschaften
Terbium-Elemente können die magnetostriktiven und magneto-optischen Eigenschaften von magnetischen Materialien erheblich verbessern.
l Starke thermische Stabilität
Es behält seine strukturelle Stabilität unter Hochtemperatur-Sputterbedingungen bei und verhindert Verzug oder Rissbildung.
l Starke chemische Stabilität
Es ist in Vakuum- oder Inertgasatmosphären stabil und nicht leicht oxidierbar oder chemisch reaktiv.
l Halbleiterfertigung
Wird zur Herstellung von Funktionsfilmen mit spezifischen magnetischen und elektrischen Eigenschaften verwendet, um die Leistung von Halbleiterbauelementen zu optimieren.
l Herstellung optischer Geräte
Wird bei der Herstellung von Hochleistungs-Optikfilmen verwendet, um die Reflexion, Transmission und die Stabilität der Filmschicht von optischen Komponenten zu verbessern.
l Magnetische Filme
Wird für Seltenerd-Magnetmaterialien, Giant-Magnetoresistance (GMR)-Filme und magneto-optische Speichermedien verwendet, um die Speicherdichte und die magnetische Reaktionsleistung zu verbessern.