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Bersagli di sputtering di tungsteno (W) per rivestimenti PVD
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Bersaglio per sputtering in alluminio scandio (bersaglio per sputtering AlSc)
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Obiettivi per lo sputtering del nichel (obiettivi per lo sputtering del nichel), purezza: 99,99%
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Bersaglio per sputtering al niobio (bersaglio per sputtering Nb)
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Bersaglio per sputtering al carburo di cromo (bersaglio per sputtering CrC)
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Bersaglio per sputtering in silicio-alluminio (bersaglio per sputtering SiAl)
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Obiettivi per sputtering di ossido di alluminio ad alta purezza (bersaglio per sputtering Al₂O₃)
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Bersaglio per sputtering al boruro di titanio (bersaglio per sputtering in ceramica TiB2)
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Bersagli per sputtering in grafite ad elevata purezza (bersaglio per sputtering C)
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Bersaglio per sputtering di ossido di niobio (bersaglio per sputtering Nb₂Oₓ)
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Bersaglio per sputtering rotante in ossido di titanio (bersaglio per sputtering Tiox)
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Bersaglio di sputtering ad alta resistenza (bersaglio di sputtering GXO)
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Bersagli per sputtering in zirconio ad elevata purezza (bersaglio per sputtering Zr)
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Bersaglio per sputtering zinco-stagno (bersaglio per sputtering ZnSn)
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Bersaglio per sputtering in carbonio di tungsteno (bersaglio per sputtering WC)
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Bersaglio per sputter in titanio ad elevata purezza (bersaglio per sputter in Ti)
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