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Materiale per bersaglio di sputtering ad alta purezza Si Target per la produzione di semiconduttori
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Bersaglio di sputtering di disprosio ad alta purezza per film magnetici e rivestimenti ottici
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Uniformità ad alta densità di purezza Al2O3 Ossido di alluminio bersaglio di sputtering
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Risistenza alla corrosione ad alte temperature
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Bersaglio di quarzo a forma di anello SiO2 per rivestimento sottovuoto
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CrC Carburo di cromo Sputtering Target Resistenza alla corrosione per rivestimento PVD
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Filtro sottile ZnO Ossido di zinco bersaglio di sputtering per il processo PVD
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Metale Niobio Sputtering Target Alta densità bassa resistenza Nb Target
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Processo di sinterizzazione a pressa calda per target di grafite ad alta purezza per sputtering
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Ta Metale bersaglio di sputtering di tantallo per rivestimenti duri rivestimenti decorativi
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Obiettivo per lo sputtering del nitruro di titanio per rivestimenti duri
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Bersaglio di Ossido di Zinco Dopato con Alluminio ad Alta Densità Bersaglio di Sputtering AZO
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Bersaglio di sputtering metallico SiAl Target di silicio e alluminio Stabilità chimica
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Diossido di zirconio ZRO2 ceramica per i processi di rivestimento da spruzzo per evaporazione
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ITO Sputtering Target Material Indium Tin Oxide Target per la tecnologia di visualizzazione
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