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[sputtering materials ]
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Zielmaterial für die Sputterung mit hoher Reinheit Si Ziel für die Halbleiterherstellung
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Hochreine Dy-Dysprosium-Sputtertargets für magnetische Filme und optische Beschichtungen
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Hochreinigkeitsdichte Einheitlichkeit Al2O3 Aluminiumoxid-Sputterziel
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SiC Siliziumkarbid Sputtertarget Hochtemperaturkorrosionsbeständigkeit
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Ringförmiges Quarz SiO2 Sputtertarget für Vakuumaufdampfung
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CrC Chromcarbid-Sputtertarget Korrosionsbeständigkeit für PVD-Beschichtung
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Dünnschicht-ZnO-Zinkoxid-Sputtertarget für PVD-Prozess
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Metall-Niob-Sputtertarget Hohe Dichte Niedriger Widerstand Nb-Target
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Hochreine Graphit-Sputtertargets, Heißpressen, Sinterprozess
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Ta-Tantal-Sputtertarget für Hartbeschichtungen und dekorative Beschichtungen
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Hochhärte Metall Sputtering Ziel Verschleißfestigkeit WC Wolfram Kohlenstoff Ziel
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Ziel für das Sputtern von TiN-Titannitrid für harte Beschichtungen
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Aluminiumdotierte Zinkoxid-Targets Hochdichte AZO-Sputtertargets
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SiAI Metallsputtering Ziel Silizium Aluminium Ziel Chemische Stabilität
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Zirkoniumdioxid ZRO2 Keramik für Verdampfungs- und Sputterbeschichtungsprozesse
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ITO Sputtertargetmaterial Indiumzinnoxid-Target für Displaytechnologie
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