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[sputtering materials ]
일치55
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PVD 코팅용 울프렌 스프터링 타겟 (W)
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알루미늄 스칸듐 스퍼터링 타겟(AlSc Sputtering Target)
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니켈 스퍼터링 타겟(Ni 스퍼터링 타겟), 순도: 99.99%
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니오브 스퍼터링 타겟(Nb 스퍼터링 타겟)
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크롬카바이드 스퍼터링 타겟(CrC Sputtering Target)
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실리콘-알루미늄 스퍼터링 타겟(SiAl 스퍼터링 타겟)
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고순도 산화알루미늄 스퍼터링 타겟(Al2O₃ Sputtering Target)
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티타늄 붕화물 스퍼터링 타겟(TiB2 세라믹 스퍼터링 타겟)
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고순도 흑연 스퍼터링 타겟(C 스퍼터링 타겟)
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산화니오브 스퍼터링 타겟(Nb2Oₓ Sputtering Target)
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산화티타늄 로터리 스퍼터링 타겟(Tiox Sputtering Target)
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고저항 스퍼터링 타겟 (GXO 스퍼터링 타겟)
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고순도 지르코늄 스퍼터링 타겟(Zr Sputtering Target)
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아연-주석 스퍼터링 타겟(ZnSn 스퍼터링 타겟)
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텅스텐 탄소 스퍼터링 타겟(WC 스퍼터링 타겟)
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고순도 티타늄 스퍼터 타겟(Ti Sputter Target)
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