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クロムスプッターターゲット (Crスプッターターゲット),純度:990.5%~99.95%

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ニオブスパッタリングターゲット(Nbスパッタリングターゲット)

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シリコンスパッタリングターゲット (Siスパッタリングターゲット)  

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酸化チタン回転スパッタリングターゲット(Tioxスパッタリングターゲット)

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銅ニッケルスパッタリングターゲット(CuNiスパッタリングターゲット)

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蒸着スパッタリング成膜プロセス用二酸化ジルコニウム(ZRO2)セラミックス

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