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Bersaglio per sputtering al niobio (bersaglio per sputtering Nb)
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Bersaglio di sputtering al silicio (bersaglio di sputtering Si)
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Bersaglio per sputtering rotante in ossido di titanio (bersaglio per sputtering Tiox)
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Obiettivi di sputtering rame-nichel (bersaglio di sputtering CuNi)
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Nano stagno indio zinco rame bismuto ossido di cerio polvere per elettroplatazione
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Bersaglio per sputtering in alluminio scandio (bersaglio per sputtering AlSc)
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Diossido di zirconio ZRO2 ceramica per i processi di rivestimento da spruzzo per evaporazione
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Obiettivi per sputtering all'ossido di zinco e stagno. Obiettivi ceramici (obiettivi per sputtering ZTO) Densità relativa ≥98%
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Bersaglio per sputtering in platino ad elevata purezza (bersaglio Pt)
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Polvere di vetro amorfo inorganico di elevata purezza
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