Aangepast / Planner / Roterend Koper Target Voor Sputtercoating

Koperdoelwit met hoge zuiverheid, aangepaste/planner/roterende koperdoelwitten, leverancier van koperdoelwitten voor sputtercoating 

De fysische eigenschappen van materialen bepalen direct de filmkwaliteit en productie-efficiëntie bij vacuümsputtercoating. Koperdoelwitten, met hun inherente uitstekende geleidbaarheid en opmerkelijke thermische geleidbaarheid, zijn een "kernmateriaal" geworden op het gebied van high-end productie, zoals halfgeleiderproductie, displaypanelen, de fotovoltaïsche industrie en energiebatterijen. Hun unieke prestatievoordelen garanderen niet alleen de stabiliteit en efficiëntie van het sputterproces, maar voorzien de gecoate producten ook van uitstekende functionaliteit en betrouwbaarheid.

 Kernvoordelen van koperdoelwit: Zuiverheid en korrelgrootte

l Ultra-hoge zuiverheid, extreem lage onzuiverheden

Gebruikmakend van elektrolytisch koper met een hoge zuiverheid, variërend van 99,9% (3N) tot 99,9999% (6N) als grondstof, worden meerstaps zuiveringsprocessen (elektrolytische raffinage, zone-raffinage) gebruikt om onzuiverheden zoals zuurstof, zwavel, ijzer, enz. strikt te controleren, waardoor uniforme en defectvrije gesputterde films worden gegarandeerd die voldoen aan de prestatie-eisen van precisie elektronische componenten.

l Uniformiteit van korrelgrootte

Koperdoelwitten vertonen onder microscopisch onderzoek dicht opeengepakte korrels met een consistente oriëntatie (textuur). Deze geoptimaliseerde microstructuur zorgt voor een hoge stabiliteit tijdens het sputterproces en garandeert een uniforme filmkwaliteit.

l Uitstekende fysische eigenschappen, stabiel sputteren

Koper is een rood-oranje metaal met een smeltpunt van 1083°C, een dichtheid van 8,96 g/cm³en een kookpunt van 2567 °C. Gekenmerkt door superieure thermische en elektrische geleidbaarheid, faciliteren koperdoelwitten snelle warmteafvoer tijdens hoogfrequent sputteren. Dit voorkomt effectief vervorming of barsten veroorzaakt door lokale thermische spanning, waardoor een continu, stabiel en hoog rendement depositieproces wordt gegarandeerd..

l Precisievorming, sterke compatibiliteit

Ondersteunt aanpassing van diverse specificaties zoals platte doelwitten, roterende doelwitten en aangepaste vormen, met een maatnauwkeurigheid gecontroleerd binnen ±0,1 mm. De oppervlakteruwheid van het doelwit is R_a ≤ 0,8 μm, perfect compatibel met gangbare sputterapparatuur zoals magne tron sputteren en ionenbundelsputteren, waardoor boogvorming tijdens het sputteren wordt verminderd.

Belangrijkste toepassingsgebieden van koperdoelwit

l  Halfgeleiderproductie

Koperdoelwitten worden veel gebruikt in de metaal interconnectielagen (zoals Cu interconnecties) in de productie van halfgeleiderchips. Met hun superieure elektrische en thermische geleidbaarheid verminderen ze effectief weerstand en energieverbruik, waardoor ze een onmisbaar kernmateriaal zijn in geavanceerde processen.

l Displaypanelen

Koperdoelwitten worden vaak gebruikt om geleidende bedradingslagen te vormen bij de productie van LCD-, OLED- en andere platte displaypanelen. Koper heeft een lagere weerstand, wat de responssnelheid en energie-efficiëntie van het display verbetert in vergelijking met traditionele materialen.

l Fotovoltaïsche industrie

Koperdoelwitten spelen een cruciale rol bij de fabricage van CIGS (koper-indium-gallium-selenide) dunne-film zonnecellen. Gebruikt bij de vorming van achterelektroden en tussenliggende geleidende lagen, dragen ze aanzienlijk bij aan een superieure foto-elektrische conversie-efficiëntie en langdurige apparaatstabiliteit.

l Energiebatterijen
Koperdoelwitten worden ook gebruikt bij de sputtercoatingbehandeling van lithiumbatterij-elektroden, waardoor de hechting en geleidbaarheid van de elektroden worden verbeterd, wat helpt bij het verbeteren van de levensduur van de batterijcyclus en de energiedichtheid.