هدف مسی سفارشی / برنامه ریز / دوار برای پوشش اسپاترینگ

هدف مسی با خلوص بالا، اهداف مسی سفارشی/مسطح/چرخشی، تامین کننده هدف مسی برای پوشش اسپاترینگ

خواص فیزیکی مواد مستقیماً کیفیت فیلم و راندمان تولید در پوشش اسپاترینگ خلاء را تعیین می کند. اهداف مسی، با رسانایی عالی ذاتی و رسانایی حرارتی برجسته خود، به یک "ماده کلیدی" در زمینه های تولید پیشرفته مانند تولید نیمه هادی ها، پنل های نمایشگر، صنعت فتوولتائیک و باتری های قدرت تبدیل شده اند. مزایای عملکرد منحصر به فرد آنها نه تنها پایداری و راندمان فرآیند اسپاترینگ را تضمین می کند، بلکه محصولات پوشش داده شده را با عملکرد و قابلیت اطمینان عالی نیز مجهز می کند.

 مزایای اصلی هدف مسی: خلوص و اندازه دانه

 خلوص فوق العاده بالا، ناخالصی های بسیار کم

با استفاده از مس الکترولیتی با خلوص بالا از 99.9% (3N) تا 99.9999% (6N) به عنوان ماده خام، فرآیندهای تصفیه چند مرحله ای (تصفیه الکترولیتی، تصفیه منطقه ای) برای کنترل دقیق ناخالصی هایی مانند اکسیژن، گوگرد، آهن و غیره استفاده می شود و فیلم های اسپاتر شده یکنواخت و بدون نقص را تضمین می کند که الزامات عملکرد اجزای الکترونیکی دقیق را برآورده می کند.

 یکنواختی اندازه دانه

اهداف مسی دانه های متراکم با جهت گیری ثابت (بافت) را تحت بازرسی میکروسکوپی نشان می دهند. این ریزساختار بهینه شده، پایداری بالایی را در طول فرآیند اسپاترینگ تضمین می کند و کیفیت یکنواخت فیلم را تضمین می کند.

 خواص فیزیکی عالی، اسپاترینگ پایدار

مس فلزی به رنگ نارنجی مایل به قرمز با نقطه ذوب 1083 درجه سانتیگراد، چگالی 8.96 گرم بر سانتی متر مکعب و نقطه جوش 2567 درجه سانتیگراد است. اهداف مسی با هدایت حرارتی و الکتریکی برتر، دفع سریع گرما را در طول اسپاترینگ فرکانس بالا تسهیل می کنند. این امر به طور موثر از تغییر شکل یا ترک خوردگی ناشی از تنش حرارتی موضعی جلوگیری می کند و فرآیند رسوب پیوسته، پایدار و با بازده بالا را تضمین می کند.^lشکل دهی دقیق، سازگاری قوی

 زمینه های کاربرد اصلی هدف مسی

l_{تولید نیمه هادی}اهداف مسی به طور گسترده در لایه های اتصال فلزی (مانند اتصالات مسی) در ساخت تراشه های نیمه هادی استفاده می شوند. با هدایت الکتریکی و حرارتی برتر، مقاومت و مصرف برق را به طور موثر کاهش می دهند و آنها را به یک ماده کلیدی ضروری در فرآیندهای پیشرفته تبدیل می کنند.

l

 اهداف مسی اغلب برای تشکیل لایه های سیم کشی رسانا در تولید LCD، OLED و سایر نمایشگرهای تخت استفاده می شوند. مس مقاومت کمتری دارد که سرعت پاسخ نمایشگر و بهره وری انرژی را در مقایسه با مواد سنتی بهبود می بخشد.

l

 اهداف مسی نقش حیاتی در ساخت سلول های خورشیدی لایه نازک CIGS (مس ایندیم گالیم سلنید) ایفا می کنند. با استفاده در تشکیل الکترودهای پشتی و لایه های رسانای میانی، به طور قابل توجهی به راندمان تبدیل فوتوالکتریک برتر و پایداری طولانی مدت دستگاه کمک می کنند.

l

 اهداف مسی همچنین در عملیات پوشش اسپاترینگ الکترودهای باتری لیتیومی استفاده می شوند و چسبندگی و رسانایی الکترود را بهبود می بخشند و به بهبود عمر چرخه باتری و چگالی انرژی کمک می کنند.