Hoog zuiverheidssputteringdoelmateriaal Si-doel voor de vervaardiging van halfgeleiders

Hoogzuiver Silicium Targetmateriaal: Kernmateriaal voor Dunne Film Depositie

Silicium targetmateriaal wordt gebruikt in fysieke dampafzetting (PVD) processen, voornamelijk voor het afzetten van middelste lagen zoals siliciumoxide, siliciumnitride en siliciumhydride. Het kan worden onderverdeeld in kristallijn silicium en HSi-typen. Siliciumtargets zijn doorgaans donkergrijs met een semi-metaalachtig uiterlijk en een dichtheid van ongeveer 2,33 g/cm³. Het smeltpunt van silicium is 1414°C en het kookpunt is 3265°C. Silicium heeft een hoge thermische geleidbaarheids-coëfficiënt (149 W·m¹·K¹) en uitstekende thermische geleidbaarheid. Bovendien heeft silicium targetmateriaal een goede hardheid, optische eigenschappen, slijtvastheid en uitstekende corrosiebestendigheid.

Uitstekende Eigenschappen van Silicium Targetmateriaal:

l Hoge Zuiverheid Garandeert Stabiele Dunne Film Prestaties

Kristallijn silicium heeft een zuiverheid van 99,999%, terwijl de HSi-zuiverheid 99,99% is

l Uitstekende Uniformiteit en Dichtheid van Dunne Films

Siliciumtargets hebben een hoge sputter-efficiëntie en zijn compatibel met diverse vacuümcoatingapparatuur in het PVD-proces. Tegelijkertijd hebben siliciumatomen een goede hechting aan veelvoorkomende substraten (zoals glas, metaal, siliciumwafers), waardoor stabiele, niet-afbladderende films worden gevormd die voldoen aan hoge betrouwbaarheidseisen.

l Goede Sputter Snelheid en Hechting

De goede thermische geleidbaarheid van silicium helpt bij het snel afvoeren van warmte van het targetoppervlak, waardoor lokale oververhitting wordt voorkomen. Ook is de geleidbaarheid essentieel voor magnetronsputteren, wat bijdraagt aan efficiënte filmdepositie.

 Brede Toepassingen van Silicium Targetmateriaal

l Productie van Optische Apparaten

Hoge Zuiverheid: Siliciumtargets garanderen de helderheid, stabiliteit en nauwkeurigheid van optische apparaten, waardoor hun prestaties en betrouwbaarheid worden verbeterd. Anti-reflectie en beschermende lagen: In glasvezelcommunicatie en geïntegreerde optische circuits worden siliciumdioxidefilms gebruikt als golfgeleidermaterialen om optische signalen te verzenden en te verwerken.

l Productie van Halfgeleiders

Gebruikt om substraten en verpakkingsmaterialen voor LED's te bereiden, wat leidt tot verbetering van de lichtgevende efficiëntie en stabiliteit van LED's.

l Productie van Sensoren

Gebruikt bij de productie van sensorelementen en signaalverwerkingscircuits, waardoor de gevoeligheid en nauwkeurigheid van sensoren worden verbeterd