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[semiconductor materials ]
Übereinstimmung47
produitsCrC Chromcarbid-Sputtertarget Korrosionsbeständigkeit für PVD-Beschichtung
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Anpassbarer Größe Chrom-Ziel Dreh- / Flächen-Cr-Sputter-Ziel
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Vakuumschmelzen Al Aluminium Ziel Moderne Dünnschichttechnologie
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Hochreine TiAl-Metallsputtertargets Titan-Aluminium-Target
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Ytterbium Yb Seltene Erden Metall Sputtertarget Hohe Dichte Gleichmäßigkeit
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Metall-Niob-Sputtertarget Hohe Dichte Niedriger Widerstand Nb-Target
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Titandioxid TiOx Keramiktargets Hohe Reinheit für das Feld der Optoelektronik
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Verschleißbeständigkeit Legierungsziele CuNi Kupfer Nickel-Ziele
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Nano-Zinnindium-Zink-Kupfer-Bismuth-Cerium-Oxid-Pulver zum Elektroplattieren
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Flat / Rotating AlSc Aluminium Scandium Sputtering Ziel
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Zirkoniumdioxid ZRO2 Keramik für Verdampfungs- und Sputterbeschichtungsprozesse
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Nioboxid Nb2O5 Target für Sputtern und Pulsed Laser Deposition
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Zink-Zinn-Oxid-Ziel ZTO Keramik-Ziel Relative Dichte ≥98%
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PT Platin-Ziel für Magnetron-Sputter-Ausdampfungs-Ionenplattierung
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Anorganisches amorphes Glaspulver Hohe Reinheit Geringe Verunreinigungen
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