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Dettagli dei prodotti

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Bersaglio di sputtering metallico
Created with Pixso. Bersaglio sputtering al molibdeno (bersaglio sputtering Mo)
Informazione dettagliata
Luogo di origine:
Cina
Certificazione:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Purezza:
990,95%-99,999%
Densità:
10,28 g/cm
Resistività:
È 5,17 × 10⁻¹⁰ Ω·cm a 0℃; 24,6 × 10⁻¹⁰ Ω·cm a 800 ℃; e 72 × 10⁻¹⁰ Ω·cm a 2400 ℃
nome:
Bersaglio sputtering al molibdeno (bersaglio sputtering Mo)
Processo di formazione:
Pressione a caldo Sinterizzazione
Specifiche del prodotto:
Bersaglio piatto, Bersaglio rotante
Campi di applicazione:
Industria dei semiconduttori, Pannelli display, Industria fotovoltaica, Vetro basso emissivo
Imballaggi particolari:
Imballaggio sottovuoto, imballato in cartoni per lo stoccaggio e il trasporto
Capacità di alimentazione:
Rifornimento stabile
Evidenziare:

Obiettivo per lo sputtering di molibdeno

,

Bersaglio sputtering Mo

,

Obiettivo del molibdeno

Descrizione di prodotto

Bersaglio di sputtering al molibdeno, una stella nascente nei materiali ad alte prestazioni

Con il continuo progresso della scienza dei materiali, i bersagli di sputtering al molibdeno sono emersi come un motore chiave in vari campi. I bersagli di molibdeno sono fondamentali nei settori dei semiconduttori, dei display, fotovoltaico e della produzione di fascia alta, offrendo vantaggi prestazionali unici che guidano l'innovazione industriale.

Eccellenti proprietà di Bersagli di sputtering al molibdeno

 

l Purezza ultra elevata


I bersagli di sputtering al molibdeno hanno tipicamente un'elevata purezza di ≥99,95%, con alcuni che raggiungono 5N (99,999%). Il contenuto estremamente basso di impurità, come Fe e Ni <50ppm, e O <200ppm, garantisce prestazioni elettriche stabili dei film sputtering, ponendo solide basi per applicazioni di alta precisione come la produzione di chip semiconduttori.

 

 

l Resistenza all'ossidazione ad alta temperatura


Con un punto di fusione ultra elevato di 2623℃, l'aumento di peso dovuto all'ossidazione in aria a 1000℃ è <0,1mg/cm² (100 ore). Ad esempio, un'azienda fotovoltaica che utilizza bersagli di Mo per preparare film TCO non ha mostrato alcun guasto dopo 500 ore di test a 85℃/85% RH, dimostrando una stabilità eccezionale in ambienti ad alta temperatura e difficili.

 

 

l Struttura precisa ed eccellente conducibilità


Densità: 10,28 g/cm³ (99% teorico), dimensione del grano <50μm, planarità ≤0,05mm (bersaglio Φ100mm). L'eccellente conducibilità del Mo ad alta purezza (resistività 5,2 μΩ·cm) garantisce un efficiente trasferimento di corrente durante lo sputtering, migliorando l'efficienza dello sputtering. Il preciso design strutturale è compatibile con apparecchiature di sputtering di alta precisione, garantendo accuratezza e uniformità del rivestimento.

 

 Applicazioni di Bersagli di sputtering al molibdeno

 

l Industria dei semiconduttori


I bersagli di molibdeno sono utilizzati nell'industria dei semiconduttori per preparare elettrodi inferiori per wafer di silicio metallico, fornendo corrente stabile e garantendo la qualità dei wafer.

 

 

l Pannelli di visualizzazione


Il materiale del bersaglio di molibdeno viene utilizzato nei display a cristalli liquidi (LCD) per migliorare la luminosità, il contrasto, il colore e la durata.

 

 

l Industria fotovoltaica


I bersagli di sputtering di Mo sono utilizzati nella produzione di celle solari come materiali elettrodici, migliorando l'efficienza di conversione.

 


l Vetro a bassa emissività


I bersagli di molibdeno sono utilizzati nella produzione di STN/TN/TFT-LCD e vetro a bassa emissività, adatti a vari sistemi di rivestimento.