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[semiconductor materials ]
일치47
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자기 필름 및 광학 코팅용 고순도 디스프로슘(Dy) 스퍼터링 타겟
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고순도 테르븀 스퍼터링 타겟(Tb Sputtering Targets)
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중국 구리 스퍼터링 타겟(Cu 스퍼터링 타겟)
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인듐 스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟 중)
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고순도 티타늄 스퍼터 타겟(Ti Sputter Target)
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니켈 스퍼터링 타겟(Ni 스퍼터링 타겟), 순도: 99.99%
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PVD 코팅용 울프렌 스프터링 타겟 (W)
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고순도 산화알루미늄 스퍼터링 타겟(Al2O₃ Sputtering Target)
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실리콘 카바이드 스퍼터링 타겟(SiC 스퍼터링 타겟)
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고저항 스퍼터링 타겟 (GXO 스퍼터링 타겟)
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고순도 흑연 스퍼터링 타겟(C 스퍼터링 타겟)
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은 스퍼터링 타겟 (Ag 스퍼터링 타겟)
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PVD용 고순도 탄탈륨 스퍼터링 타겟(Ta 스퍼터링 타겟)
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고순도 지르코늄 스퍼터링 타겟(Zr Sputtering Target)
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알루미늄 네오디엄 스프터링 타겟 (AlNd Sputtering Target)
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텅스텐 탄소 스퍼터링 타겟(WC 스퍼터링 타겟)
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