제품 세부 정보
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몰리브덴 스퍼터링 타겟(Mo Sputtering Target)
| 브랜드 이름: | APG |
| 배달 시간: | 4-5 주 |
| 지불 조건: | 티/티 |
몰리브덴 스퍼터링 타겟
,Mo 스퍼터링 타겟
,몰리브덴 타겟
몰리브덴 스퍼터링 타겟, 고성능 소재의 떠오르는 별
재료 과학의 지속적인 발전과 함께 몰리브덴 스퍼터링 타겟은 다양한 분야에서 핵심 동력으로 부상했습니다. 몰리브덴 타겟은 반도체, 디스플레이, 태양광 및 첨단 제조 분야 전반에 걸쳐 중요하며 산업 혁신을 주도하는 독특한 성능 이점을 제공합니다.
의 우수한 특성몰리브덴 스퍼터링 타겟
초고순도
몰리브덴 스퍼터링 타겟은 일반적으로 99.95% 이상의 높은 순도를 가지며, 일부는 5N(99.999%)에 도달합니다. Fe 및 Ni <50ppm, O <200ppm과 같은 극히 낮은 불순물 함량은 스퍼터링된 박막의 안정적인 전기적 성능을 보장하여 반도체 칩 제조와 같은 고정밀 응용 분야에 견고한 기반을 마련합니다.l고온 산화 저항
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정밀한 구조와 우수한 전도성밀도: 10.28 g/cm³ (이론치의 99%), 결정립 크기 <50μm, 평탄도 ≤0.05mm (Φ100mm 타겟). 고순도 Mo의 우수한 전도성(비저항 5.2 μΩ·cm)은 스퍼터링 중 효율적인 전류 전달을 보장하여 스퍼터링 효율을 향상시킵니다. 정밀한 구조 설계는 고정밀 스퍼터링 장비와 호환되어 코팅 정확도와 균일성을 보장합니다.
몰리브덴 스퍼터링 타겟
l반도체 산업
몰리브덴 타겟은 반도체 산업에서 금속 실리콘 웨이퍼의 하부 전극을 제조하는 데 사용되어 안정적인 전류를 제공하고 웨이퍼 품질을 보장합니다.l
몰리브덴 타겟 재료는 액정 디스플레이(LCD)에 사용되어 밝기, 대비, 색상 및 수명을 향상시킵니다.
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Mo 스퍼터링 타겟은 태양 전지 제조에서 전극 재료로 사용되어 변환 효율을 향상시킵니다.
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몰리브덴 타겟은 STN/TN/TFT-LCD 및 저방사 유리 생산에 사용되며 다양한 코팅 시스템에 적합합니다.
