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Bersaglio di sputtering di disprosio ad alta purezza per film magnetici e rivestimenti ottici
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Bersagli per sputtering di terbio ad elevata purezza (bersagli per sputtering di Tb)
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Obiettivi cinesi di sputtering di rame (obiettivi di sputtering di Cu)
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Bersagli Sputtering Indio (nei bersagli Sputtering)
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Bersaglio per sputter in titanio ad elevata purezza (bersaglio per sputter in Ti)
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Obiettivi per lo sputtering del nichel (obiettivi per lo sputtering del nichel), purezza: 99,99%
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Bersagli di sputtering di tungsteno (W) per rivestimenti PVD
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Obiettivi per sputtering di ossido di alluminio ad alta purezza (bersaglio per sputtering Al₂O₃)
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Bersagli per sputtering in carburo di silicio (bersaglio per sputtering SiC)
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Bersaglio di sputtering ad alta resistenza (bersaglio di sputtering GXO)
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Bersagli per sputtering in grafite ad elevata purezza (bersaglio per sputtering C)
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Bersagli di sputtering in argento (bersaglio di sputtering Ag)
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Bersaglio per sputtering al tantalio ad elevata purezza (bersaglio per sputtering Ta) per PVD
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Bersagli per sputtering in zirconio ad elevata purezza (bersaglio per sputtering Zr)
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Meta di sputtering di alluminio e neodimio (AlNd Sputtering Target)
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Bersaglio per sputtering in carbonio di tungsteno (bersaglio per sputtering WC)
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