خلوص 99.5% - 99.95% تیتانیوم اسپاتر تارگت مقاومت در برابر خوردگی تی تارگت

هدف تیتانیوم، به عنوان یک ماده اصلی در تکنولوژی تثبیت بخار فیزیکی (PVD) ، به شدت صنایع استراتژیک مانند نیمه هادی ها، نمایشگرها،و مراقبت های بهداشتی از طریق خلوص بالا و کنترل ساختاری دقیقپیشرفت های تکنولوژیکی آن در سه ستون استراتژیک انجام می شود: بهینه سازی عملکرد مواد، پیشگام بودن فرآیندهای تولید پیشرفته،و گسترش به برنامه های کاربردی با ارزش بالا.

از نظر عملکرد، اهداف تیتانیوم از لحاظ تکنولوژیکی از طریق کنترل خلوص در سطح اتمی و تنظیم میکروساخت، بر سایر همتایان غلبه می کنند.محصولات درجه نیمه هادی دارای طهارت 5N-6N هستند، و محتوای ناخالصی از ppm به سطح ppb کاهش می یابد، که به طور موثر از شکست الکترومیگریشن جلوگیری می کند.به حد محدوده نظری می رسد.، با اندازه دانه ≤50 μm، اطمینان از صاف بودن فیلم به عنوان مورد نیاز برای لیتوگرافی EUV.

ویژگی های عالی تیتانیوم هدف

من خواص مکانیکی خوب

تیتانیوم دارای قدرت بالا و تراکم پایین است، بنابراین فیلم های تیتانیوم خواص مکانیکی برتر را در کاربردهای مختلف ساختاری نشان می دهند.

من مقاومت در برابر خوردگی

تیتانیوم در محیط های مختلف شیمیایی مقاومت بسیار خوبی نسبت به خوردگی دارد. فیلم های Ti در آب دریا، محیط های اسیدی و قلیایی و غیره محافظت موثری را فراهم می کنند.

من ثبات در دمای بالا

تیتانیوم ثبات خوبی در دمای بالا دارد، بنابراین، فیلم های تیتانیوم به طور گسترده در زمینه های دمای بالا مانند هوافضا و انرژی هسته ای استفاده می شود.

من خواص تزئینی

تیتانیوم دارای خواص تزئینی استثنایی است که ناشی از رشد کنترل شده یک لایه اکسید منفعل است.فیلم ها در درمان های سطح بالا برای محصولات مصرفی مانند ساعت های دقیق استفاده می شوند.، عینک و جواهرات برای دستیابی به پایان های با دوام و زیبایی شناختی با مقاومت بالا در برابر لباس و حمله شیمیایی.

من مقاومت بالا

مقاومت تیتانیوم خالص در دمای اتاق به طور قابل توجهی بالاتر است (حدود 42.0 × 10−8 Ω · m) نسبت به هادی های فلزی که معمولاً استفاده می شوند (به عنوان مثال Cu ، Al).تیتانیوم با طهارت بالا (مانند درجه 4N5) با به حداقل رساندن ناخالصی های بینشی (O، N و C) برای کاهش مقاومت و به حداکثر رساندن رسانایی الکتریکی.

کاربرد گسترده هدف تیتانیوم

من تولید نیمه هادی

موانع پخش برای ارتباط متقابل Cu: به عنوان یک لایه مهم موانع پخش، تیتانیوم مانع از مهاجرت اتم های مس به زیربناهای سیلیکون حساس می شود.همچنین به عنوان یک ترویج کننده مؤثر چسبندگی عمل می کند، تضمین پیوند قوی بین اتصال های مس و لایه های زیربنایی. به عنوان روند تراشه پیشرفت (7nm، 5nm، 3nm، و فراتر از آن)الزامات برای طهارت هدف تیتانیوم و کیفیت فیلم به طور فزاینده ای سختگیرانه می شود، که به طور مستقیم بر بهره وری تولید تراشه و عملکرد دستگاه تاثیر می گذارد.

 من صفحه نمایش

در آرایه های TFT، به عنوان قطعات الکترود (به عنوان مثال، Mo-Ti) یا لایه های کلیدی تماس / چسبندگی اوم عمل می کند.

یک "بنیاد" اتصال قوی برای الکترود های شفاف ITO فراهم می کند.

 من صنعت خورشیدی

انتخاب بهینه برای لایه های تماس عقب و چسبندگی باتری با کارایی بالا

 من تولید دستگاه های نوری

رسوب خالص فیلم های Ti یا TiO2 برای عملکرد نوری برتر در پوشش های AR، فیلترها و شیشه های خود تمیز کننده ضروری است.خلوص محدودیت های نوری را با به حداقل رساندن پراکندگی نور و از دست دادن جذب تعیین می کند، اطمینان از عملکرد کارآمد در تمام سیستم های پیشرفته.