เป้าสปัตเตอริงโลหะ Mo เป้าสปัตเตอริงโมลิบดีนัม

เป้าหมายโมลิบเดนัม ดาวกําลังขึ้นในวัสดุที่มีประสิทธิภาพสูง

ด้วยความก้าวหน้าอย่างต่อเนื่องของวิทยาศาสตร์วัสดุ เป้าหมายโมลิบเดนัมได้ปรากฏขึ้นเป็นตัวขับเคลื่อนหลักในสาขาต่างๆ เป้าหมายโมลิบเดนัมเป็นสิ่งสําคัญในครึ่งประสาท, จัดแสดง, โฟโตวอลเตย์,และภาคการผลิตระดับสูง ส่งผลประโยชน์ในด้านการทํางานที่โดดเด่น ที่ขับเคลื่อนนวัตกรรมอุตสาหกรรม

คุณสมบัติที่ดีเยี่ยมของเป้าหมายโมลิบเดนัม

ฉัน ความบริสุทธิ์สูงสุด

เป้าหมายโมลิบเดนมักมีความบริสุทธิ์สูง ≥ 99.95%, บางส่วนถึง 5N (99.999%).รับประกันผลงานไฟฟ้าที่มั่นคงของฟิล์มที่กระจายสร้างพื้นฐานที่แข็งแกร่งสําหรับการใช้งานความละเอียดสูง เช่น การผลิตชิปครึ่งตัวนํา

ฉัน ความต้านทานต่อการออกซิเดนที่อุณหภูมิสูง

ด้วยจุดละลายสูงสุด 2623 °C การเพิ่มน้ําหนักจากการออกซิเดนในอากาศที่ 1000 °C คือ < 0.1mg/cm2 (100 ชั่วโมง)บริษัทไฟฟ้าไฟฟ้าที่ใช้เป้าหมาย Mo ในการเตรียมหนัง TCO ไม่แสดงความผิดพลาดหลังจาก 500 ชั่วโมงภายใต้ 85 °C/85% RH การทดสอบ, แสดงความมั่นคงที่โดดเด่นในอุณหภูมิสูงและสภาพแวดล้อมที่ยากลําบาก

ฉัน โครงสร้าง ที่ ละเอียด และ การ ควบคุม ที่ ดีเยี่ยม

ความหนาแน่น: 10.28 g/cm3 (ทฤษฎี 99%) ขนาดเมล็ด < 50μm ความราบ ≤ 0.05 mm (เป้าหมาย Φ100mm) การนําไฟที่ดีของ Mo ความบริสุทธิ์สูง (ความต้านทาน 5.2 μΩ · cm) รับประกันการถ่ายทอดกระแสไฟฟ้าที่มีประสิทธิภาพระหว่างการพ่นการออกแบบโครงสร้างที่แม่นยําสามารถใช้กับอุปกรณ์การกระจายกระจายระดับความแม่นยําสูง

 การใช้ของเป้าหมายโมลิบเดนัม

ฉัน อุตสาหกรรมครึ่งประสาท

เป้าหมายโมลิบเดนัมถูกใช้ในอุตสาหกรรมครึ่งตัวนําเพื่อเตรียมอิเล็กทรอัดด้านล่างสําหรับแผ่นซิลิคอนโลหะ, ให้กระแสที่คงและรับประกันคุณภาพแผ่น.

ฉัน แผนการแสดง

วัสดุเป้าหมายโมลิบเดนัมถูกใช้ในจอจอเหลว (LCDs) เพื่อเพิ่มความสว่าง, ความแตกต่าง, สี, และอายุการใช้งาน

ฉัน อุตสาหกรรมไฟฟ้าไฟฟ้า

เป้าหมายโมลิบเดนัมถูกใช้ในการผลิตเซลล์แสงอาทิตย์เป็นวัสดุอิเล็กทรอนด์ เพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพการแปลง

ฉัน กระจกระบายไฟฟ้าต่ํา

เป้าหมายโมลิบเดนัมถูกใช้ในการผลิต STN/TN/TFT-LCD และกระจกที่มีระดับการปล่อยระดับต่ํา เหมาะสําหรับระบบการเคลือบที่หลากหลาย