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Einzelheiten zu den Produkten

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Ziel für Metallsputtern
Created with Pixso. Mo Metall Sputtering Ziel Molybdän Sputtering Ziel
Ausführliche Information
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Reinheit:
99.95% bis 99,999%
Dichte:
10,28 g/cm
Widerstand:
Sie beträgt 5,17 × 10⁻¹⁰ Ω·cm bei 0℃; 24,6 × 10⁻¹⁰ Ω·cm bei 800℃; und 72 × 10⁻¹⁰ Ω·cm bei 2400℃
Name:
Molybdän-Target (Mo)
Bildungsprozess:
Warmpressen und Sintern
Produktspezifikationen:
Flaches Ziel, rotierendes Ziel
Anwendungsfelder:
Halbleiterindustrie, Anzeigetafeln, Photovoltaikindustrie, Glas mit niedrigem Emissionsgrad
Verpackung Informationen:
Vakuumversiegelte Verpackung, kartonverpackt für Lagerung und Transport
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
Stabile Versorgung
Hervorheben:

Ziel für die Metall-Molibdän-Sputterung

,

Mo Metall Sputtering Ziel

,

Molybdän-Metall-Sputterziel

Produkt-Beschreibung

Molybdänziele, ein aufsteigender Stern bei Hochleistungsmaterialien

Mit dem kontinuierlichen Fortschritt der Materialwissenschaft sind Molybdän-Ziele in verschiedenen Bereichen zu einem wichtigen Treiber geworden.,und High-End-Produktionssektoren, die einzigartige Leistungsvorteile bieten, die die industrielle Innovation vorantreiben.

Ausgezeichnete Eigenschaften von Molybdän-Zielen

 

Ich... Ultra-hohe Reinheit

 

Molybdänziele haben in der Regel eine hohe Reinheit von ≥ 99,95%, wobei einige 5N (99,999%) erreichen.sorgt für eine stabile elektrische Leistung von gespritzten Folien, die eine solide Grundlage für hochpräzise Anwendungen wie die Herstellung von Halbleiterchips schaffen.

 

 

Ich... Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen

 

Bei einem extrem hohen Schmelzpunkt von 2623°C beträgt die Gewichtszunahme durch Oxidation in der Luft bei 1000°C < 0,1 mg/cm2 (100 Stunden).Ein Photovoltaikunternehmen, das Mo-Ziele zur Herstellung von TCO-Filmen verwendet, hat nach 500 Stunden bei 85 °C/85% RH keine Fehler gezeigt., die eine hervorragende Stabilität bei hohen Temperaturen und in rauen Umgebungen aufweist.

 

 

Ich... Genaue Struktur und hervorragende Leitfähigkeit

 

Dichte: 10,28 g/cm3 (theoretisch 99%), Korngröße < 50 μm, Flachheit ≤ 0,05 mm (Ziel Φ100 mm).2 μΩ·cm) gewährleistet eine effiziente Stromübertragung während des SputternsDie präzise Konstruktion ist mit hochpräzisen Sputterausrüstungen kompatibel und gewährleistet die Präzision und Gleichmäßigkeit der Beschichtung.

 

 Anwendungen von Molybdänzielen

 

Ich... Halbleiterindustrie

 

Molybdän-Targets werden in der Halbleiterindustrie zur Vorbereitung von Bodenelektroden für Metall-Silisium-Wafer verwendet, die einen stabilen Strom liefern und die Waferqualität gewährleisten.

 

 

Ich... Anzeigeteile

 

Molybdän-Zielmaterial wird in Flüssigkristall-Displays (LCDs) verwendet, um Helligkeit, Kontrast, Farbe und Lebensdauer zu verbessern.

 

 

Ich... Photovoltaik-Industrie

 

Molybdänziele werden in der Herstellung von Solarzellen als Elektrodenmaterialien verwendet, um die Umwandlungseffizienz zu verbessern.

 

 

Ich... Glas mit geringer Emissionskraft

 

Molybdänziele werden bei der Herstellung von STN/TN/TFT-LCDs und Glas mit geringer Emissionsfähigkeit verwendet, das für verschiedene Beschichtungssysteme geeignet ist.