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Detalles de los productos

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Objetivo de pulverización de metales
Created with Pixso. Objetivo de pulverización catódica de metal de molibdeno (Mo)
Información detallada
Lugar de origen:
Porcelana
Certificación:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Pureza:
99.95% a 99,999%
Densidad:
10,28 g/cm
Resistividad:
Mide 5,17 × 10⁻¹⁰ Ω·cm a 0℃; 24,6 × 10⁻¹⁰ Ω·cm a 800℃; y 72 × 10⁻¹⁰ Ω·cm a 2400℃
Nombre:
Objetivo de molibdeno (Mo)
Proceso de formación:
Sinterización por prensado en caliente
Especificaciones del producto:
Objetivo plano, objetivo giratorio
Campos de aplicación:
Industria de semiconductores, Paneles de visualización, Industria fotovoltaica, Vidrio de baja emisi
Detalles de empaquetado:
Envasado al vacío, embalado en cajas para almacenamiento y transporte.
Capacidad de la fuente:
Fuente estable
Resaltar:

Objetivo de pulverización catódica de metal de molibdeno

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Objetivo de pulverización catódica de metal de molibdeno (Mo)

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Objetivo de pulverización catódica de metal de molibdeno

Descripción de producto

Objetivos de molibdeno, una estrella en ascenso en materiales de alto rendimiento

Con el avance continuo de la ciencia de los materiales, los objetivos de molibdeno se han convertido en un motor clave en varios campos. Los objetivos de molibdeno son críticos en los sectores de semiconductores, pantallas, fotovoltaica y fabricación de alta gama, ofreciendo ventajas de rendimiento únicas que impulsan la innovación industrial.

Excelentes propiedades de los objetivos de molibdeno

 

l Pureza ultra alta

 

Los objetivos de molibdeno suelen tener una alta pureza de ≥99,95%, y algunos alcanzan 5N (99,999%). El contenido extremadamente bajo de impurezas, como Fe y Ni <50ppm, y O <200ppm, garantiza un rendimiento eléctrico estable de las películas pulverizadas, sentando una base sólida para aplicaciones de alta precisión como la fabricación de chips semiconductores.

 

 

l Resistencia a la oxidación a alta temperatura

 

Con un punto de fusión ultra alto de 2623℃, la ganancia de peso por oxidación en aire a 1000℃ es <0,1mg/cm² (100 horas). Por ejemplo, una empresa fotovoltaica que utiliza objetivos de Mo para preparar películas TCO no mostró fallos después de 500 horas de prueba a 85℃/85% HR, lo que demuestra una estabilidad excepcional en entornos de alta temperatura y hostiles.

 

 

l Estructura precisa y excelente conductividad

 

Densidad: 10,28 g/cm³ (99% teórico), tamaño de grano <50μm, planitud ≤0,05mm (objetivo de Φ100mm). La excelente conductividad del Mo de alta pureza (resistividad 5,2 μΩ·cm) garantiza una transferencia de corriente eficiente durante la pulverización, mejorando la eficiencia de la pulverización. El diseño estructural preciso es compatible con equipos de pulverización de alta precisión, garantizando la precisión y uniformidad del recubrimiento.

 

 Aplicaciones de los objetivos de molibdeno

 

l Industria de semiconductores

 

Los objetivos de molibdeno se utilizan en la industria de semiconductores para preparar electrodos inferiores para obleas de silicio metálico, proporcionando una corriente estable y garantizando la calidad de la oblea.

 

 

l Paneles de visualización

 

El material objetivo de molibdeno se utiliza en pantallas de cristal líquido (LCD) para mejorar el brillo, el contraste, el color y la vida útil.

 

 

l Industria fotovoltaica

 

Los objetivos de molibdeno se utilizan en la fabricación de células solares como materiales de electrodo, mejorando la eficiencia de conversión.

 

 

l Vidrio de baja emisividad

 

Los objetivos de molibdeno se utilizan en la producción de LCD STN/TN/TFT y vidrio de baja emisividad, adecuados para varios sistemas de recubrimiento.