Yüksek Saflıklı Zr Zirkonyum Sputtering Hedef Malzeme Korozyona Direnci

Zirkonyum hedefler, yüksek saflıkta zirkonyum (Zr) metalinden işlenmiş püskürtme hedefleridir. Düşük hidrojen emilimi, yüksek erime noktası (1855°C), mükemmel korozyon direnci ve iyi termal iletkenlik özelliklerine sahiptirler. Yarı iletkenlerde, optik kaplamalarda ve fonksiyonel kaplamalarda yaygın olarak kullanılırlar. Zirkonyumun mükemmel fiziksel ve kimyasal özellikleri ve oksijene olan güçlü afinitesi nedeniyle, vakum püskürtme ortamlarında kararlı bir şekilde yüksek kaliteli filmler oluşturabilir.

Zirkonyum Hedeflerinin Mükemmel Özellikleri

l Genellikle %99,5 – %99,9 saflıkta olup, filmlerin kararlı elektriksel ve optik performansını sağlar.

l Erime noktası yaklaşık 1855°C olup, yüksek sıcaklık işleme koşullarında kararlılığı korur.

l Mükemmel Korozyon Direnci:Asitlere, alkalilere, tuzlara ve çoğu kimyasal ortama karşı güçlü direnç gösterir, zorlu ortamlar için uygundur.

l Düşük Nötron Emilim Kesiti:Nükleer endüstride, özellikle reaktör bileşenleri ve bunların kaplamaları için önemlidir.

l Güçlü Oksijen Afinitesi:Püskürtme sırasında oksijenle kolayca birleşerek optik kaplamalarda, yalıtım katmanlarında ve diğer uygulamalarda kullanılan yüksek kaliteli zirkonyum oksit (ZrO₂) filmleri üretir.

 Zirkonyum Hedeflerinin Uygulamaları

l Yarı İletken Üretimi

Cihaz performansını ve kararlılığını artırarak bariyer katmanları, dielektrik katmanlar veya elektrot malzemeleri üretmek için kullanılır.

l Optik Cihaz Üretimi

Optik filtreler ve yansıma önleyici kaplamalar gibi yüksek kırılma indisine sahip filmler üretmek için kullanılır.

l Sert Kaplamalar

Aşınmaya ve korozyona dayanıklı kaplamalar üretmek için genellikle nitrürlerle (ZrN) birleştirilir, takım kaplamaları ve dekoratif kaplamalar için kullanılır.

l Nükleer Endüstri

Zirkonyumun düşük nötron emilimi nedeniyle, zirkonyum malzemeleri ve bunların filmleri nükleer reaktör bileşenlerinde özel uygulamalara sahiptir.