Vật liệu mạ Zirconium Zr độ tinh khiết cao chống ăn mòn

Mục tiêu Zirconium là các mục tiêu phún xạ được xử lý từ kim loại zirconium (Zr) có độ tinh khiết cao. Chúng có đặc điểm hấp thụ hydro thấp, điểm nóng chảy cao (1855°C), khả năng chống ăn mòn tuyệt vời và dẫn nhiệt tốt. Chúng được sử dụng rộng rãi trong lĩnh vực bán dẫn, lớp phủ quang học và lớp phủ chức năng. Do các đặc tính vật lý và hóa học tuyệt vời của zirconium và ái lực mạnh với oxy, nó có thể tạo ra các màng chất lượng cao một cách ổn định trong môi trường phún xạ chân không.

Các Đặc Tính Tuyệt Vời của Mục Tiêu Zirconium

l Độ tinh khiết thường từ 99,5% – 99,9%, đảm bảo hiệu suất điện và quang học ổn định của màng.

l Điểm nóng chảy khoảng 1855°C, duy trì sự ổn định trong điều kiện xử lý nhiệt độ cao.

l Khả năng chống ăn mòn tuyệt vời:Khả năng chống lại axit, kiềm, muối và hầu hết các môi chất hóa học mạnh, phù hợp với môi trường khắc nghiệt.

l Tiết diện hấp thụ neutron thấp:Quan trọng trong ngành công nghiệp hạt nhân, đặc biệt đối với các bộ phận lò phản ứng và lớp phủ của chúng.

l Ái lực mạnh với oxy:Dễ dàng kết hợp với oxy trong quá trình phún xạ để tạo ra các màng oxit zirconium (ZrO₂) chất lượng cao, được sử dụng trong lớp phủ quang học, lớp cách điện và các ứng dụng khác.

 Ứng Dụng của Mục Tiêu Zirconium

l Sản xuất bán dẫn

Được sử dụng để sản xuất các lớp chắn, lớp điện môi hoặc vật liệu điện cực, nâng cao hiệu suất và độ ổn định của thiết bị.

l Sản xuất thiết bị quang học

Được sử dụng để sản xuất các màng có chiết suất cao, chẳng hạn như bộ lọc quang học và lớp phủ chống phản xạ.

l Lớp phủ cứng

Thường kết hợp với nitrua (ZrN) để tạo ra các lớp phủ chống mài mòn và chống ăn mòn, được sử dụng cho lớp phủ dụng cụ và lớp phủ trang trí.

l Ngành công nghiệp hạt nhân

Do khả năng hấp thụ neutron thấp của zirconium, vật liệu zirconium và màng của chúng có các ứng dụng đặc biệt trong các bộ phận của lò phản ứng hạt nhân.